[发明专利]通过接触氢还原进行的制造方法

权利要求书

1.一种通式(ii)所表示的化合物的制造方法，其通过对通式(i)所表示的化合物进行接触氢还原来进行，

[化1]

式中，Rⁱ¹和Rⁱ²各自独立地表示碳原子数1至12的烷基或碳原子数1至12的烯基，存在于Rⁱ¹和Rⁱ²中的1个-CH₂-或不相邻的2个以上的-CH₂-各自独立地可被-O-或-S-取代，此外，存在于Rⁱ¹和Rⁱ²中的1个或2个以上的氢原子各自独立地可被氟原子或氯原子取代，Mⁱ¹和Mⁱ²各自独立地表示1,4-亚苯基或萘-2,6-二基，存在于Mⁱ¹和Mⁱ²中的1个或2个以上的氢原子各自独立地可被氟原子或氯原子取代，Zⁱ¹表示-CH＝CH-或-C≡C-，Zⁱ²表示单键、-OCH₂-、-CH₂O-、-CF₂O-、-OCF₂-、-COO-、-OCO-、-CH₂CH₂-或-CF₂CF₂-，

[化2]

式中，Rⁱ¹、Rⁱ²、Mⁱ¹、Mⁱ²和Zⁱ¹表示与通式(i)中的Rⁱ¹、Rⁱ²、Mⁱ¹、Mⁱ²和Zⁱ²相同的意思。

2.通式(i)所表示的化合物，

[化1]

式中，Rⁱ¹和Rⁱ²各自独立地表示碳原子数1至12的烷基或碳原子数1至12的烯基，存在于Rⁱ¹和Rⁱ²中的1个-CH₂-或不相邻的2个以上的-CH₂-各自独立地可被-O-或-S-取代，此外，存在于Rⁱ¹和Rⁱ²中的1个或2个以上的氢原子各自独立地可被氟原子或氯原子取代，Mⁱ¹和Mⁱ²各自独立地表示1,4-亚苯基或萘-2,6-二基，存在于Mⁱ¹和Mⁱ²中的1个或2个以上的氢原子各自独立地可被氟原子或氯原子取代，Zⁱ¹表示-CH＝CH-或-C≡C-，Zⁱ²表示单键、-OCH₂-、-CH₂O-、-CF₂O-、-OCF₂-、-COO-、-OCO-、-CH₂CH₂-或-CF₂CF₂-。

3.一种化合物，其为权利要求1所述的通式(ii)中Mⁱ¹和Mⁱ²的至少一方表示可被氟原子取代的萘-2,6-二基的化合物。

4.一种组合物，其含有1种或2种以上的根据权利要求3所述的化合物。