[发明专利]掩模板表面微尘去除装置及除尘方法

权利要求书

1.一种掩模板表面微尘去除装置，其特征在于，所述掩模板表面微尘去除装置，包括：

腔体，用于容置待除尘之掩模板，并在所述腔体上设置进气孔、出气孔和所述掩模板之进出门；

承载平台，设置在所述腔体内，用以承载所述待除尘之掩模板，并在第一驱动装置的作用下以第一运动方式工作；

吹扫装置，与外界气压源和第二驱动装置连接，并设置在所述待除尘的掩模板之异于所述承载平台的一侧，且所述第二驱动装置驱动所述吹扫装置以第二运动方式工作，所述第一驱动装置驱动所述承载平台和所述吹扫装置同步以第一运动方式工作。

2.如权利要求1所述的掩模板表面微尘去除装置，其特征在于，所述第一运动方式为以所述承载平台的中心轴线为转轴，在所述第一驱动装置的作用下进行任意角度翻转。

3.如权利要求1所述的掩模板表面微尘去除装置，其特征在于，所述第二运动方式为以所述待除尘掩模板之中部为起始点的半径渐增运动方式、以所述待除尘掩模板之角部为起始点的半径递减运动方式的至少其中之一。

4.如权利要求1所述的掩模板表面微尘去除装置，其特征在于，所述吹扫装置，进一步包括：

本体座，所述本体座内形成气体通路；

第一通孔，设置在所述本体座之一侧，并通过气体管路与所述外界气压源连接；

第二通孔，间隔设置在所述本体座之异于所述第一通孔的一侧，并与所述第一通孔连通。

5.如权利要求4所述的掩模板表面微尘去除装置，其特征在于，所述第一通孔处设置气体喷嘴，所述第二通孔处分别设置气体喷嘴。

6.如权利要求4或5任一权利要求所述的掩模板表面微尘去除装置，其特征在于，所述吹扫装置，进一步包括：

气压监测装置，设置在所述第一通孔处，且所述气压监测装置之压力监测探头用于采集流经所述第一通孔气体之压力；

警示装置，在所述气体压力监测装置之监测压力超过预设值时发出警示；

压力调控装置，根据所述气体压力监测装置之监测压力对与所述第一通孔相连的气体管路之气压进行实时调控。

7.如权利要求6所述的掩模板表面微尘去除装置，其特征在于，所述气体管路之气压调控为通过控制所述气体管路之流量进行压力调控。

8.一种如权利要求1所述的掩模板表面微尘去除装置之除尘方法，其特征在于，所述掩模板表面微尘去除装置之除尘方法，包括：

执行步骤S1：将待除尘之掩模板放置在所述承载平台上；

执行步骤S2：通过所述第一驱动装置驱动所述承载平台和所述吹扫装置以第一运动方式工作，调整工作平面；

执行步骤S3：通过所述第二驱动装置驱动所述吹扫装置以第二运动方式工作，执行表面除尘。

9.如权利要求8所述的掩模板表面微尘去除装置之除尘方法，其特征在于，所述掩模板表面微尘去除装置之除尘方法，进一步包括：

执行步骤S4：启动所述气压监控装置、警示装置、压力调控装置，当所述吹扫装置之气体管路的气体压力大于预设值时，所述警示装置发出预警，所述压力调控装置进行气体压力调控。

10.如权利要求8或9任一权利要求所述的掩模板表面微尘去除装置之除尘方法，其特征在于，所述第一运动方式为以所述承载平台的中心轴线为转轴，在所述第一驱动装置的作用下进行任意角度翻转；所述第二运动方式为以所述待除尘掩模板之中部为起始点的半径渐增运动方式、以所述待除尘掩模板之角部为起始点的半径递减运动方式的至少其中之一。