[发明专利]电光装置及电子设备

说明书

本发明提供能够使防湿性提高的电光装置和电子设备。具有元件基板(10)；和以与元件基板(10)介由密封件(14)而相对的方式配置的相对基板(20)，配置为从元件基板(10)以及相对基板(20)的侧面(10b、20b)到密封件(14)的长度(L)相对于元件基板(10)与相对基板(20)的间隔的长度(H)之比为50以上且300以下，以覆盖密封件(14)以及元件基板(10)和相对基板(20)的至少一部分侧面(10b、20b)的方式设置有阻挡膜(41)。

技术领域

本发明涉及电光装置及电子设备。

背景技术

作为上述电光装置之一，例如，已知下述有源驱动方式的液晶装置：按各像素具备晶体管作为对像素电极进行开关控制的元件。液晶装置例如在直视型显示器和/或投影机的光阀等中使用。

液晶装置例如具备：元件基板；以与元件基板相对的方式配置的相对基板；和在元件基板与相对基板之间介由密封件而夹持的液晶层。为了抑制水分从元件基板与相对基板之间的密封件浸入至液晶层，例如，如专利文献1和专利文献2所记载，从元件基板的侧面，遍及密封件和相对基板的侧面形成有包括无机材料的阻挡层和/或防湿膜。

但是，由于相对于元件基板与相对基板的间隔的长度，从元件基板的侧面和相对基板的侧面到密封件为止的距离长，所以存在阻挡层形成不到密封件的问题。于是，例如如图9所示，从元件基板10的侧面10b遍及密封件14的侧面14a、相对基板20的侧面20b，形成包括树脂材料等的基底膜501，进而以覆盖该基底膜501的方式形成有阻挡膜502。

专利文献1：日本特开2008-225399号公报

专利文献2：日本特开2007-47253号公报

但是，存在如下问题：由于基底膜501和阻挡膜502从液晶装置500的侧面(元件基板10的侧面10b、相对基板20的侧面20b)大幅突出，所以在物理性地被施加冲击时，在阻挡膜502会产生裂纹和/或缺口而受到破坏，耐湿性将降低。

发明内容

本发明的方式是为了解决上述问题的至少一部分而实现的，能够作为以下的方式或应用例而实现。

应用例1：本应用例涉及的电光装置具有：元件基板；相对基板，其以与所述元件基板介由密封件而相对的方式配置；以及无机膜，其以覆盖所述密封件的侧面、所述元件基板的侧面的至少一部分和所述相对基板的侧面的至少一部分的方式设置，所述元件基板和所述密封件配置为：从所述元件基板的侧面到所述密封件的侧面的长度相对于所述元件基板与所述相对基板的间隔的长度的比为50以上且300以下，所述相对基板和所述密封件配置为：从所述相对基板的侧面到所述密封件的侧面的长度相对于所述元件基板与所述相对基板的间隔的长度的比为50以上且300以下。

根据本应用例，由于以上述长度之比(纵横比)为50以上且300以下的方式配置元件基板、相对基板以及密封件，所以能够从各基板的侧面遍及密封件而形成无机膜。因此，能够无需像以往那样在无机膜的基底设置树脂材料而直接在各基板和密封件的表面形成。因此，能够抑制无机膜从各基板的侧面大幅伸出，难以对无机膜施加冲击。此外，由于从基板的侧面遍及密封件的侧面以无机膜覆盖表面，所以能够防止水分浸入于由密封件包围的内部，能够使耐湿性提高。

应用例2：优选，在上述应用例涉及的电光装置中，所述元件基板与所述相对基板的间隔的长度为1μm～5μm，从所述元件基板的侧面到所述密封件的侧面以及从所述相对基板的侧面到所述密封件的侧面的各自的长度分别为1μm～1000μm。

根据本应用例，通过以成为上述的值的方式配置元件基板、相对基板以及密封件，能够从各基板的侧面遍及密封件的侧面完全地形成无机膜。因此，能够使耐湿性提高。