[发明专利]电光装置及电子设备有效
| 申请号: | 201510385854.0 | 申请日: | 2015-06-30 |
| 公开(公告)号: | CN105223738B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
| 发明(设计)人: | 筿原誉;清水雄一;小林重树;宫川拓也 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 万利军;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电光 装置 电子设备 | ||
1.一种电光装置,其特征在于,具有:
元件基板;
相对基板,其以与所述元件基板介由密封件而相对的方式配置;以及
无机膜,其以覆盖所述密封件的侧面、所述元件基板的侧面的至少一部分和所述相对基板的侧面的至少一部分的方式设置,
所述元件基板和所述密封件配置为:从所述元件基板的侧面到所述密封件的侧面为止的长度相对于所述元件基板与所述相对基板的间隔的长度之比,为50以上且300以下,
所述相对基板和所述密封件配置为:从所述相对基板的侧面到所述密封件的侧面为止的长度相对于所述元件基板与所述相对基板的间隔的长度之比,为50以上且300以下。
2.根据权利要求1所述的电光装置,其特征在于,
所述元件基板与所述相对基板的间隔的长度为2μm~3μm,
从所述元件基板的侧面到所述密封件的侧面为止以及从所述相对基板的侧面到所述密封件的侧面为止的各自的长度,分别为100μm~700μm。
3.根据权利要求1所述的电光装置,其特征在于,
所述无机膜是以ALD形成的膜。
4.根据权利要求1所述的电光装置,其特征在于,
所述无机膜是氧化钽。
5.根据权利要求1所述的电光装置,其特征在于,
所述无机膜的厚度是1nm~50nm。
6.一种电子设备,其特征在于,
具备权利要求1~5中任一项所述的电光装置。
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