[发明专利]一种印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置有效

专利信息
申请号: 201510383200.4 申请日: 2015-07-02
公开(公告)号: CN104911597B 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 李建光 申请(专利权)人: 深圳市洁驰科技有限公司
主分类号: C23F1/46 分类号: C23F1/46
代理公司: 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙)44312 代理人: 陈健
地址: 518125 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 印刷 电路板 酸性 蚀刻 废气 吸收 装置
【说明书】:

技术领域

发明属于电路板酸性蚀刻液技术领域,尤其涉及一种用于吸收印刷电路板的酸性蚀刻废液在电解过程中产生的废气的印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置。

背景技术

印制线路板(PCB板)也称印刷电路板,其以绝缘板为基材,切成一定尺寸,其上至少附有一个导电图形,作为基板,并在基板上部设有孔(如元件孔、坚固孔、金属孔等安装孔),用来代替以往装置电子元器件的底盘,通过基板上的导电图形、焊盘及金属化过孔实现元件引脚之间的电气连接。作为电子产品最基本也是最核心的部件,印制线路板广泛运用于各类电子产品及大型设备及装置上。

目前全球印刷电路板产业产值占电子元件产业总产值的四分之一以上,是各个电子元件细分产业中比重最大的产业,产业规模达400亿美元。同时,由于其在电子基础产业中的独特地位,已经成为当代电子元件业中最活跃的产业。随着我国电子工业年增长率超过20%,也带动了印刷电路板及相关产业发展,我国已成为世界最大的印刷电路板生产中心。

众所周知,化学蚀刻工艺是目前制造印刷电路板过程中必不可少的重要步骤,在印刷电路板生产过程中,通常用酸性蚀刻工艺生产电路板,因此,每年要产生大量的这种酸性蚀刻废液。而针对这些酸性蚀刻废液的处理,目前行业中绝大部分采用直接电解的方式来提取出蚀刻废液中的铜单质,将剩下的废药水通过调药再生,返回蚀刻机使用;或者通过技术处理,达标后排放。无论采用何种处理方式,在电解过程中,必定会在阳极产生氯气。传统的处理方式是直接将废气收集到废气塔,通过强碱溶液喷淋吸收。该处理方式存在下述缺陷:1)消耗大量强碱溶液,产生大量废水,增大废水处理难度;2)吸收完氯气的溶液具有刺激性气味,且成分不稳定,遇光容易分解;3)废气塔吸收效果有限,容易出现超标排放现象。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置,旨在其不仅

本发明是这样实现的,一种印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置,其包括缸体、射流吸收机构及加热机构,所述缸体包括两相对设置的第一侧板及第二侧板,以及两相对设置的第三侧板及第四侧板,所述缸体沿着所述第一侧板及所述第二侧板的方向,从所述第四侧板至所述第三侧板之间依次包括平衡缸、收集缸、射流缸、加热缸、添加缸及循环缸,所述射流缸与所述加热缸相对设置,所述射流缸靠近所述第二侧板一侧设置,所述加热缸靠近所述第一侧板一侧设置,所述射流吸收机构装设在所述射流缸的后端位置,所述加热机构收容于所述加热缸内。

进一步地,前述的缸体还包括两相对设置的顶板及底板,所述顶板及所述底板、所述第一侧板及所述第二侧板、所述第三侧板及所述第四侧板共同围成一呈中空长方体结构的外壳,两个加强肋箍设在所述外壳的外围中间位置。

进一步地,前述的第一侧板靠近所述底板的位置间隔设置有两个保养水出口、一个废液出水口、第一液位管、第二液位管及第三液位管,所述废液出水口位于所述第一液位管旁边,所述第二液位管及所述第三液位管设置在所述两个保养水出口之间,所述第三侧板靠近所述底板及所述第二侧板的位置设置有蚀刻液出口。

进一步地,前述的平衡缸与所述收集缸之间设置有第一溢流板,所述第一溢流板垂直于所述底板且与所述第四侧板相对设置,位于所述平衡缸的所述顶板上靠近所述第二侧板及所述第四侧板的位置设置两个第一液位孔,所述两个第一液位孔设置成一行且与所述第四侧板平行,所述废液出水口及所述第一液位管位于所述平衡缸的区域内,所述第一溢流板中间靠上位置开设有多个用于将所述蚀刻液溢流至所述平衡缸内的第一溢流通孔。

进一步地,前述的收集缸与所述射流缸及所述加热缸之间设置有第一潜流板,所述第一潜流板垂直于所述底板且与所述第一溢流板相对设置,位于所述收集缸的所述顶板上靠近所述第一潜流板的位置设置有两个排成一行的用于装入蚀刻液的蚀刻液入口。

进一步地,前述的射流缸与所述添加缸之间设置有第二溢流板,而所述射流缸与所述加热缸之间设置有射流隔板;所述第二溢流板垂直于所述底板且与所述第一潜流板相对设置,所述第二溢流板中间靠上位置开设有多个用于将加热后的蚀刻液溢流至所述添加缸中的第二溢流通孔,所述射流隔板平行于所述第一侧板及所述第二侧板且垂直于所述第一潜流板设置,所述射流隔板靠近所述顶板的上方开有用于平衡所述射流缸与所述加热缸之间的气压的缺口。

进一步地,前述的射流缸内还设置有射流挡板,所述射流挡板位于所述射流缸的下端并将所述射流缸分隔成上射流缸、下射流缸两个部分。

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