[发明专利]一种印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置

权利要求书

1.一种印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置，包括缸体、射流吸收机构及加热机构，所述缸体包括两相对设置的第一侧板及第二侧板，以及两相对设置的第三侧板及第四侧板，所述缸体沿着所述第一侧板及所述第二侧板的方向，从所述第四侧板至所述第三侧板之间依次包括平衡缸、收集缸、射流缸、加热缸、添加缸及循环缸，所述射流缸与所述加热缸相对设置，所述射流缸靠近所述第二侧板一侧设置，所述加热缸靠近所述第一侧板一侧设置，所述射流吸收机构装设在所述射流缸的后端位置，所述加热机构收容于所述加热缸内。

2.如权利要求1所述的印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置，其特征在于，所述缸体还包括两相对设置的顶板及底板，所述顶板及所述底板、所述第一侧板及所述第二侧板、所述第三侧板及所述第四侧板共同围成一呈中空长方体结构的外壳，两个加强肋箍设在所述外壳的外围中间位置。

3.如权利要求2所述的印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置，其特征在于，所述第一侧板靠近所述底板的位置间隔设置有两个保养水出口、一个废液出水口、第一液位管、第二液位管及第三液位管，所述废液出水口位于所述第一液位管旁边，所述第二液位管及所述第三液位管设置在所述两个保养水出口之间，所述第三侧板靠近所述底板及所述第二侧板的位置设置有蚀刻液出口。

4.如权利要求3所述的印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置，其特征在于，所述平衡缸与所述收集缸之间设置有第一溢流板，所述第一溢流板垂直于所述底板且与所述第四侧板相对设置，位于所述平衡缸的所述顶板上靠近所述第二侧板及所述第四侧板的位置设置两个第一液位孔，所述两个第一液位孔设置成一行且与所述第四侧板平行，所述废液出水口及所述第一液位管位于所述平衡缸的区域内，所述第一溢流板中间靠上位置开设有多个用于将所述蚀刻液溢流至所述平衡缸内的第一溢流通孔。

5.如权利要求4所述的印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置，其特征在于，所述收集缸与所述射流缸及所述加热缸之间设置有第一潜流板，所述第一潜流板垂直于所述底板且与所述第一溢流板相对设置，位于所述收集缸的所述顶板上靠近所述第一潜流板的位置设置有两个排成一行的用于装入蚀刻液的蚀刻液入口。

6.如权利要求5所述的印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置，其特征在于，所述射流缸与所述添加缸之间设置有第二溢流板，而所述射流缸与所述加热缸之间设置有射流隔板；所述第二溢流板垂直于所述底板且与所述第一潜流板相对设置，所述第二溢流板中间靠上位置开设有多个用于将加热后的蚀刻液溢流至所述添加缸中的第二溢流通孔，所述射流隔板平行于所述第一侧板及所述第二侧板且垂直于所述第一潜流板设置，所述射流隔板靠近所述顶板的上方开有用于平衡所述射流缸与所述加热缸之间的气压的缺口。

7.如权利要求6所述的印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置，其特征在于，所述射流缸内还设置有射流挡板，所述射流挡板位于所述射流缸的下端并将所述射流缸分隔成上射流缸、下射流缸两个部分；

所述加热缸由所述第一溢流板、所述第二溢流板、所述射流隔板、所述第一侧板、所述顶板及所述底板围设而成，所述加热缸的所述顶板上靠近所述第一侧板的位置从所述第一潜流板至所述第二溢流板的方向依次设置有基板、密封盖板及出气口，所述密封盖板位于所述出气口与所述基板之间，所述出气口用于将未吸收完全的气体和加热过程中产生的气体输送至下一道处理工序，所述密封盖板大致呈长方体结构且用于密封所述外壳。

8.如权利要求7所述的印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置，其特征在于，所述添加缸与所述循环缸之间设置有第二潜流板，所述第二潜流板垂直于所述底板及所述第二侧板且与所述第二溢流板相对设置；所述添加缸由所述第二溢流板、所述第二潜流板、所述第一侧板、所述第二侧板、所述顶板及所述底板围设而成；位于所述添加缸的所述顶板上靠近所述第二溢流板的位置设置有一排药水添加孔，所述药水添加孔平行于所述第二潜流板排列，所述第二液位管位于所述添加缸的区域内。