[发明专利]利用冗余硅工艺降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法

说明书

本发明提供了一种利用冗余硅工艺降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法，包括：在晶圆上形成氮化硅层，并且在氮化硅层中形成凹槽，而且在凹槽的底部形成内层，并且在内层表面以及凹槽侧壁上依次沉积高k材料介电层和氮化钛层；在所述氮化钛层上淀积冗余硅层；在所述冗余硅层上淀积氮化钽阻挡层；执行退火，以使得所述冗余硅层分别与所述氮化钛层和所述氮化钽阻挡层融合而分别形成氮硅化钛层和氮硅化钽层。

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，更具体地说，本发明涉及一种利用冗余硅工艺降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法。

背景技术

在高K(高介电常数)金属栅半导体工艺中，由于金属栅各层金属化合物最终晶向形成的不确定性，造成了功函数的不确定性，最终使得器件的阈值电压存在着很大的波动性。

目前，有许多工艺都在尝试降低这种器件的波动性，金属栅层间的冗余硅技术便是其中之一，但是这类应用并不成熟，方法也不够优化。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在上述缺陷，提供一种降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法，其利用冗余硅的淀积和扩散，与其上下层的栅极金属分别形成氮硅化合物，从而获得良好的材料性能以抑制功函数的波动和阻挡后续上层金属原子的向下扩散，最终降低金属栅器件的阈值电压波动性和不确定性。

为了实现上述技术目的，根据本发明，提供了一种利用冗余硅工艺降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法，包括：第一步骤：在晶圆上形成氮化硅层，并且在氮化硅层中形成凹槽，而且在凹槽的底部形成内层，并且在内层表面以及凹槽侧壁上依次沉积高k材料介电层和氮化钛层；第二步骤：在所述氮化钛层上淀积冗余硅层；第三步骤：在所述冗余硅层上淀积氮化钽阻挡层；第四步骤：执行退火，以使得所述冗余硅层分别与所述氮化钛层和所述氮化钽阻挡层融合而分别形成氮硅化钛层和氮硅化钽层。

优选地，在高k金属栅器件工艺中执行所述利用冗余硅工艺降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法。

优选地，所述利用冗余硅工艺降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法还包括：淀积P型金属栅并最终形成P型金属栅极。

优选地，所述冗余硅层的厚度为5-50埃。

优选地，在第四步骤中，退火温度为50-1250摄氏度。

优选地，在第四步骤中，退火时间为0.1-1000秒。

优选地，所述高k材料介电层的材料为HfO2。

优选地，所述冗余硅层的材料为无定形硅。

在本发明中，提供一种降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法，其利用冗余硅的淀积和扩散，与其上下层的栅极金属分别形成氮硅化合物TaSiN和TiSiN，这两种氮硅化合物因其无定形性，本身具有较小的功函数波动，且可以阻挡后续上层金属原子的向下扩散，最终降低金属栅器件的阈值电压波动性和不确定性。由此，本发明能够获得良好的材料性能以抑制功函数的波动和阻挡后续上层金属原子的向下扩散，最终降低金属栅器件的阈值电压波动性和不确定性。

附图说明

结合附图，并通过参考下面的详细描述，将会更容易地对本发明有更完整的理解并且更容易地理解其伴随的优点和特征，其中：

图1示意性地示出了根据本发明优选实施例的利用冗余硅工艺降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法的第一步骤。

图2示意性地示出了根据本发明优选实施例的利用冗余硅工艺降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法的第二步骤。

图3示意性地示出了根据本发明优选实施例的利用冗余硅工艺降低高k金属栅器件阈值电压波动的方法的第三步骤。