[发明专利]一种含锆膜层的镀膜玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明属化学材料技术领域，具体说是含锆保护层的镀膜玻璃及制备技术。

背景技术

镀膜玻璃已在各领域广泛使用，而在其运输、储藏过程中，玻璃表面的膜层容易划伤、磨损，破坏已镀的玻璃膜层；目前传统的方法是在玻璃膜层外贴PE保护膜，这种方法增添了贴膜、除膜程序，且在贴膜过程中，PE膜与玻璃表面膜之间不可避免形成气泡，该气泡里包含的气体会对玻璃膜形成氧化倾向，影响玻璃表面膜质量，除下来的PE膜是多余的固废物，对环境形成压力。能找到一种代替PE膜的作用，又不用贴膜和除膜程序是最理想的技术。

发明内容

本发明提供一种含锆膜层的镀膜玻璃及其制备方法。

本发明的技术方案为：一种含锆膜层的镀膜玻璃，包括玻璃基片、镀制于玻璃基片表面的功能膜层、镀制于功能膜层表面的含锆膜层，其中功能膜层可以是一层；也可以是从里往外的保护层、功能层、电介质层叠加的多层，电介质层材料为SiO₂时，与含锆膜层附着力最大；含锆膜层材料为SiNx和ZrSiOxNy的混合物，该混合物中SiNx重量百分比为50％-70％，且58％-63％最佳，膜层厚度25-30nm，尤以28nm最优。

进一步技术方案为：一种含锆膜层的镀膜玻璃制备方法，在于以下步骤：在玻璃基片上用磁控溅射方式沉积功能膜层，再用磁控溅射方式在功能膜层外沉积含锆膜层；上述步骤在真空度0.1Pa真空室内工作，镀层沉积结束，释放真空，充入体积N₂/O₂比小于等于8的保护气体，辊道送镀膜玻璃出真空腔室。SiAl靶5和ZrSiAl靶6还可以调节安装角度、挡板宽度，以便达到最佳的沉积效果。

本方法得到的含锆膜层镀膜玻璃，可以有效解决传统镀膜基片划伤、摩擦、氧化等问题，具有较高的实用价值和经济价值。

附图说明

图1是含锆膜层镀膜玻璃截面示意图；

图2是真空室内靶材溅射示意图。

玻璃基片1，功能膜层2，含锆膜层3，真空室4，SiAl靶5，ZrSiAl靶6，已镀功能膜层2的玻璃基片7。

具体实施方式

为使对本发明的步骤及内容有更进一步的了解与认识，如图1、2所示，用较佳的实施例配合详细的说明如下：

玻璃基片1已镀过功能膜层2，将已镀功能膜层2的玻璃基片7通过辊道传送至真空室4内，关闭真空室4两端进出口门，抽真空，真空室内达到真空度0.1Pa时，设置在真空室内且在已镀功能膜层2的玻璃基片7上方的SiAl靶5和ZrSiAl靶6通电并旋转，在电场作用下，向已镀功能膜层2的玻璃基片7上表面沉积含锆膜层，沉积到设定的厚度时，真空释放，充入N₂/O₂保护气体，保护气体N₂/O₂体积比小于等于8，已镀功能膜层2的玻璃基片7的功能层2上镀了一层含锆膜层3。SiAl靶5和ZrSiAl靶6还可以调节安装角度、挡板宽度，以便达到最佳的沉积效果，膜层中SiNx所占比例，由于同一环境下，ZrSiAl靶材溅射速率是SiAl靶的60％，含锆膜层材料为SiNx和ZrSiOxNy的混合物，该混合物中SiNx重量百分比为50％-70％，膜层厚度25-30nm，。当SiNx在含锆膜层中重量百分比为58％-63％，膜层厚度尤以28nm时，其膜层附着力、耐磨性、耐腐蚀能力、热稳定性最佳。