[发明专利]一种含锆膜层的镀膜玻璃及其制备方法在审
| 申请号： | 201510345204.3 | 申请日： | 2015-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN104890324A | 公开（公告）日： | 2015-09-09 |
| 发明（设计）人： | 吴昌飞;艾蒙雁 | 申请（专利权）人： | 芜湖市晨曦新型建材科技有限公司 |
| 主分类号： | B32B17/06 | 分类号： | B32B17/06;B32B15/04;B32B33/00;B32B37/10 |
| 代理公司： | 北京元本知识产权代理事务所 11308 | 代理人： | 范奇 |
| 地址： | 241000 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 含锆膜层 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种含锆膜层的镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片、镀制于玻璃基片表面的功能膜层、镀制于功能膜层表面的含锆膜层；含锆膜层材料为SiNx和ZrSiOxNy的混合物，该混合物中SiNx重量百分比为50％-70％，膜层厚度25-30nm。
2.根据权利要求1所述的含锆膜层的镀膜玻璃，其特征在于功能膜层为一层或者为从里往外的保护层、功能层、电介质层叠加的多层。
3.根据权利要求2所述的含锆膜层的镀膜玻璃，其特征在于功能膜层的电介质层材料为SiO2。
4.根据权利要求1所述的含锆膜层的镀膜玻璃，其特征在于含锆膜层材料中SiNx重量百分比为58％-63％。
5.根据权利要求1所述的含锆膜层的镀膜玻璃，其特征在于含锆膜层厚度28nm。
6.一种含锆膜层的镀膜玻璃制备方法，其特征在于步骤：在玻璃基片上用磁控溅射方式沉积功能膜层，再用磁控溅射方式在功能膜层外沉积含锆膜层；上述步骤在真空度0.1Pa的真空室内工作，镀层沉积结束，释放真空，充入N2/O2体积比小于等于8的保护气体，辊道输送含锆膜层玻璃出真空腔室。
7.根据权利要求6所述的含锆膜层的镀膜玻璃制备方法，其特征在于SiAl靶(5)和ZrSiAl靶(6)可以调节安装角度、挡板宽度。
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