[发明专利]投影显示设备和图像显示系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种投影显示设备，该投影显示设备减少附着于光调制元件的微小异物。

背景技术

投影显示设备在其内部设置有多个加热元件。为了冷却这些加热元件，例如利用布置在投影显示设备内部的风扇，将投影显示设备外部的空气带入投影显示设备内部并且将空气引至待冷却的加热元件。在这种情况下，根据投影显示设备的设置环境，很多诸如灰尘等的异物可能漂浮。因此，当冷却空气被引入投影显示设备内部时，侵入并附着于设置在投影显示设备内部的光学元件的异物可能使投影图像的品质劣化。特别地，当异物附着于光调制元件时，存在如下问题：容易在投影图像中看见异物。另一方面，光调制元件需要执行相对于容纳在投影显示设备内部的光学部件的位置调整并且其性能受到因外力造成的压力的影响，因此难以采用牢固的密封构造。

以前，已知如下构造：将集尘过滤器布置在入口(空气入口)或将诸如具有小反作用力的发泡材料和橡胶等的柔性防尘构件布置在光学元件的周围。日本特开平11-305674号公报公开了如下构造：第一防尘构件布置在遮光板和安装有光调制元件的基部之间，第二防尘构件布置在波长板(wave plate)和遮光板之间，以确保高防尘性。日本特开2004-020603号公报公开了如下构造：防尘罩布置在遮光构件和偏光分束器(polarization beam splitter)之间。

但是，即使在日本特开平11-305674号公报和日本特开2004-020603号公报公开的构造中，仍存在微小异物通过防尘部件中的间隙侵入的可能性。特别地，难以确保对例如不大于1μm的微小颗粒的充分的防尘性能(密封性能)，并且，归因于长时间的使用，污物逐渐附着于光学部件，可能在投影图像中显示出颜色不均匀。

当使用设置有小开口的过滤器捕获微小颗粒时，过滤器的通风阻力(ventilation resistance)增大，因此风扇的噪音增大并且设备的尺寸增大。当增大附着压力或接触压力以改善各部件的密封性能时，拆卸性(dismantling property)劣化，对光学部件的应力变大，因此光学性能劣化并且使光学部件的位置移位。

发明内容

本发明提供一种能够减少异物附着于光调制元件的投影显示设备和图像显示系统。

作为本发明的一方面的投影显示设备包括：遮光构件，其设置有供光源的光通过的开口；以及光调制元件单元，其构造为面对所述遮光构件，从而所述光调制元件单元被通过所述遮光构件的所述开口的光照射，所述遮光构件具有第一区域和位于所述第一区域与所述开口之间的第二区域，所述光调制元件单元具有面对所述第一区域的第三区域和面对所述第二区域的第四区域，并且所述第一区域和所述第三区域之间的第一平均温度梯度大于所述第二区域和所述第四区域之间的第二平均温度梯度。

作为本发明的另一方面的投影显示设备包括：遮光构件，其设置有供光源的光通过的开口；以及光调制元件单元，其构造为面对所述遮光构件，从而所述光调制元件单元被通过所述遮光构件的所述开口的光照射，所述遮光构件具有第一区域和位于所述第一区域与所述开口之间的第二区域，所述光调制元件单元具有面对所述第一区域的第三区域和面对所述第二区域的第四区域，并且所述第二区域中的所述遮光构件和所述第四区域中的所述光调制元件单元之间的距离小于所述第一区域中的所述遮光构件和所述第三区域中的所述光调制元件单元之间的距离。

作为本发明的另一方面的图像显示系统包括：投影显示设备以及构造为向所述投影显示设备供给图像信息的图像供给设备。

从以下参照附图对示例性实施方式的说明，本发明的其他特征和方面将变得明显。

附图说明

图1是实施例1中的光调制元件块的分解立体图。

图2是实施例1中的光调制元件块的构造图。

图3是实施例1中的光调制元件块的截面图。

图4A和图4B分别是图3中的范围A的放大图和示出位置与温度之间的关系的图。

图5是实施例2中的光调制元件块的分解立体图。

图6是实施例2中的光调制元件块的构造图。

图7是实施例2中的光调制元件块的截面图。

图8A和图8B分别是图7中的范围B的放大图和示出位置与温度之间的关系的图。

图9是实施例3中的光调制元件块的分解立体图。

图10是实施例3中的光调制元件块的构造图。

图11是实施例3中的光调制元件块的截面图。