[发明专利]投影显示设备和图像显示系统有效

专利信息
申请号: 201510333972.7 申请日: 2015-06-16
公开(公告)号: CN106200232B 公开(公告)日: 2018-05-01
发明(设计)人: 游佐浩一;野田敏之 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G03B21/14
代理公司: 北京魏启学律师事务所11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 投影 显示 设备 图像 系统
【权利要求书】:

1.一种投影显示设备,其包括:

遮光构件,其设置有供光源的光通过的开口;以及

光调制元件单元,其构造为面对所述遮光构件,从而所述光调制元件单元被通过所述遮光构件的所述开口的光照射,

其特征在于,

所述遮光构件具有第一区域和位于所述第一区域与所述开口之间的第二区域,

所述光调制元件单元具有面对所述第一区域的第三区域和面对所述第二区域的第四区域,并且

所述第一区域和所述第三区域之间的第一平均温度梯度大于所述第二区域和所述第四区域之间的第二平均温度梯度。

2.根据权利要求1所述的投影显示设备,其特征在于,

所述第二区域位于所述遮光构件的所述开口周围,并且

所述第一区域位于比所述第二区域远离所述开口的位置。

3.根据权利要求1所述的投影显示设备,其特征在于,

所述光调制元件单元包括:

光调制元件,其包括玻璃盖片并且所述光调制元件构造为被所述光源的光照射,以及

散热器,其构造为释放所述光调制元件的热。

4.根据权利要求3所述的投影显示设备,其特征在于,

所述第二区域位于所述光调制元件的有效像素区域周围,

所述第一区域位于比所述第二区域远离所述有效像素区域的位置,

所述第一平均温度梯度是所述第一区域中的所述遮光构件和所述第三区域中的所述光调制元件的所述玻璃盖片之间的平均温度梯度,并且

所述第二平均温度梯度是所述第二区域中的所述遮光构件和所述第四区域中的所述光调制元件的所述玻璃盖片之间的平均温度梯度。

5.根据权利要求3所述的投影显示设备,其特征在于,所述投影显示设备还包括防尘构件,该防尘构件安装于所述散热器,以覆盖所述光调制元件的所述玻璃盖片。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的投影显示设备,其特征在于,所述遮光构件由热传导率不小于150W/(m·K)的构件构成。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的投影显示设备,其特征在于,所述第一平均温度梯度和所述第二平均温度梯度是在所述光源点亮之后经过了预定的时间段时确定的平均温度梯度。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的投影显示设备,其特征在于,所述第二区域中的所述遮光构件和所述第四区域中的所述光调制元件单元之间的距离小于所述第一区域中的所述遮光构件和所述第三区域中的所述光调制元件单元之间的距离。

9.根据权利要求8所述的投影显示设备,其特征在于,在所述第二区域中所述遮光构件具有沿朝向所述光调制元件单元的方向突出的形状。

10.根据权利要求8所述的投影显示设备,其特征在于,在所述第四区域中所述光调制元件单元具有沿朝向所述遮光构件的方向突出的凸形状部。

11.根据权利要求8所述的投影显示设备,其特征在于,在所述第一区域中所述遮光构件具有沿与所述光调制元件单元相反的方向突出的凸形状部。

12.根据权利要求8所述的投影显示设备,其特征在于,在所述第二区域中所述遮光构件具有倾斜形状部,该倾斜形状部形成为越接近所述遮光构件的所述开口越靠近所述光调制元件单元。

13.根据权利要求8所述的投影显示设备,其特征在于,

所述遮光构件包括:

第一遮光构件,和

第二遮光构件,其布置为比所述第一遮光构件靠近所述光调制元件单元,

所述第二遮光构件与散热器接触,

在所述第一区域中所述第二遮光构件设置有多个开口,并且

所述第二遮光构件的热传导率大于所述第一遮光构件的热传导率。

14.根据权利要求13所述的投影显示设备,其特征在于,所述第一遮光构件具有插入所述第二遮光构件的所述多个开口中的多个突起部。

15.根据权利要求8所述的投影显示设备,其特征在于,

在所述第二区域中所述遮光构件具有面对所述光调制元件单元的表面,并且

对所述表面执行黑色表面处理。

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