[发明专利]带保护膜的粘接片有效
| 申请号： | 201510326569.1 | 申请日： | 2015-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN105273649B | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 川合贤司;中村茂雄;江户幸则;大桥成一郎 | 申请（专利权）人： | 味之素株式会社 |
| 主分类号： | C09J7/40 | 分类号： | C09J7/40;B32B37/06;B32B37/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 卢曼;彭昶 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 保护膜 粘接片 | ||
1.带保护膜的粘接片，该带保护膜的粘接片包含：
由具有第一表面和第二表面的支撑体以及与该支撑体的第二表面接合的树脂组合物层形成的粘接片；以及
具有第一表面和第二表面且以该第二表面与粘接片的树脂组合物层接合的方式设置的保护膜，
其中，按照JIS B 0601测定的保护膜的第一表面的算术平均粗糙度(Rap1)为100nm以上，
按照JIS B 0601测定的保护膜的第二表面的算术平均粗糙度(Rap2)为100nm以上，
保护膜的第一表面的算术平均粗糙度(Rap1)和支撑体的第一表面的算术平均粗糙度(Ras1)的合计为120nm以上。
2.带保护膜的粘接片，该带保护膜的粘接片包含：
由具有第一表面和第二表面的支撑体以及与该支撑体的第二表面接合的树脂组合物层形成的粘接片；以及
具有第一表面和第二表面且以该第二表面与粘接片的树脂组合物层接合的方式设置的保护膜，
其中，使用非接触式表面粗糙度计，利用VSI接触模式、50倍透镜，将测定范围设为121μm×92μm测定的保护膜的第一表面的算术平均粗糙度(Rap1)为100nm以上，
使用非接触式表面粗糙度计，利用VSI接触模式、50倍透镜，将测定范围设为121μm×92μm测定的保护膜的第二表面的算术平均粗糙度(Rap2)为100nm以上，
保护膜的第一表面的算术平均粗糙度(Rap1)和支撑体的第一表面的算术平均粗糙度(Ras1)的合计为120nm以上。
3.权利要求1或2所述的带保护膜的粘接片，其中，树脂组合物层含有无机填充材料，
将树脂组合物层中的不挥发成分设为100质量%时，树脂组合物层中的无机填充材料的含量为60质量%以上。
4.权利要求3所述的带保护膜的粘接片，其中，无机填充材料的含量为62质量%以上。
5.权利要求3所述的带保护膜的粘接片，其中，无机填充材料的含量为70质量%以上。
6.权利要求3所述的带保护膜的粘接片，其中，无机填充材料的含量为95质量%以下。
7.权利要求1或2所述的带保护膜的粘接片，其中，保护膜的第一表面的算术平均粗糙度(Rap1)为150nm以上。
8.权利要求1或2所述的带保护膜的粘接片，其中，保护膜的第一表面的算术平均粗糙度(Rap1)为200nm以上。
9.权利要求1或2所述的带保护膜的粘接片，其中，保护膜的第一表面的算术平均粗糙度(Rap1)为300nm以上。
10.权利要求1或2所述的带保护膜的粘接片，其中，保护膜的第一表面的算术平均粗糙度(Rap1)为1500nm以下。
11.权利要求1或2所述的带保护膜的粘接片，其中，保护膜的第二表面的算术平均粗糙度(Rap2)为150nm以上。
12.权利要求1或2所述的带保护膜的粘接片，其中，保护膜的第二表面的算术平均粗糙度(Rap2)为200nm以上。
13.权利要求1或2所述的带保护膜的粘接片，其中，保护膜的第二表面的算术平均粗糙度(Rap2)为250nm以上。
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