[发明专利]基板处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及在处理室内对基板实施例如离子注入等处理的基板处理装置。

背景技术

作为以往的基板处理装置，如专利文献1所示，有下述的装置：该装置具备：处理室，在该处理室中向立起的基板照射离子束；以及闸室(预真空室)，与所述处理室邻接设置，以将基板放倒为水平的状态收容基板。所述基板处理装置通过用设置于处理室中的支架移动机构将设置于处理室中的两个呈平板状的支架(台板)交替往返移动，对保持在支架上的基板进行离子注入。

具体地进行说明，所述支架移动机构由线性运动机构和转动机构构成，所述线性运动机构由设置于处理室内的滚珠丝杠和与该滚珠丝杠螺纹连接的滚珠螺母构成，所述转动机构使支架在水平状态与立起状态之间转动。

支架支承臂为L形，具备安装在滚珠螺母上并与滚珠丝杠垂直地延伸的根部臂、以及从所述根部臂的前端起与滚珠丝杠平行地延伸的支承臂，所述支架支承臂的前端安装有所述支架的侧缘。另外，支架面与由所述根部臂及支承臂形成的面在同一个平面上。

通过这种结构，以如下的方式将基板从闸室向处理室移动。

首先，在通过所述转动机构使支架支承臂成为放倒的状态亦即使支架成为水平状态后，通过所述线性运动机构使支架进入所述闸室，将处于水平状态的基板保持在支架上。接着，使保持有基板的支架后退并将其取出到处理室内。随后，通过利用所述转动机构使支架支承臂转动并立起，使支架和保持在该支架上的基板立起。而后，在保持所述姿势的状态下，通过所述线性运动机构将基板移动到照射离子束的离子束照射区域。使被照射了离子束后的基板以与所述步骤相反的步骤返回到闸室内。

从所述结构可知，支架的侧缘(即，与通过滚珠丝杠移动的移动方向垂直的端缘)以悬臂的方式支承在支架支承臂的前端。此外，支承所述支架支承臂的滚珠螺母，在所述支架的移动方向上位于支架的外侧。

可是，近年来玻璃基板的尺寸正在大型化，已经达到第十代(基板尺寸2850mm×3050mm)的程度。此外，需要满足与基板的大型化无关地提高基板处理装置的生产率的要求。

认为，所述的专利文献1的基板处理装置由于是将两个基板上下重叠输送的方式，所以不仅可以减小装置尺寸，还可以提高生产率。

可是，在所述以往的结构中，由于因基板的大型化导致保持基板的支架也大型化，所以会产生例如下述的问题。

(1)在以往的结构中，在闸室与处理室之间，以不在中途交接基板的方式边改变其姿势边用单个支架保持并移动基板，因此支架的支承结构变得复杂且勉强(例如为了能将基板插入闸室内，将支架支承臂形成为前述的L形等长的形状，并用该支架支承臂以悬臂的方式支承支架的侧缘)，因而，由于基板和支架的大型化、沉重化，所以变得往往在所述支架支承臂、以及移动该支架支承臂的所述线性运动机构和转动机构等上作用过大的力。

具体地进行说明，由于所述滚珠螺母通过L形的支架支承臂在支架移动方向的外侧支承支架，所以如果支架大型化并且重量增加，则不论支架是在立起姿势还是水平姿势的任意姿势情况下，都存在下述问题：滚珠螺母上总是会作用大的力矩，支架的支承变得不稳定，会损害滚珠螺母的移动的平滑性。

(2)不得不采用能使大型化后的支架进入闸室的结构，需要加大闸室的容积。

(3)由于闸室用于不使处理室返回大气气氛就能在处理室和大气之间取放基板，所以在交换基板时闸室从真空气氛变为大气气氛、或从大气气氛变为真空气氛。如上所述，如果闸室的容积变大，则用于切换闸室的气氛所花费的时间的会变多。

现有技术文献

专利文献1：日本专利公开公报特开平10-135146号

发明内容

因此，本发明是用于解决所述的问题而做出的发明，本发明的主要目的是提供一种基板处理装置，其能够稳定地支承大型化了的支架，并且能够防止因支架的大型化而导致闸室的大容量化，并能缩短切换所述闸室的气氛的时间。