[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，

所述基板处理装置包括：

处理室，在该处理室中在真空气氛下处理基板；

闸室，收容所述基板，被切换为大气气氛或真空气氛；

输送室，设置在所述处理室和所述闸室之间，在真空气氛下在所述处理室和所述闸室之间输送所述基板；

两个支架，设置在所述处理室中，分别保持基板；

支架移动机构，至少使所述两个支架在接收从所述输送室输送来的所述基板的接收位置与处理所述基板的处理位置之间移动，并且在所述接收位置使所述两个支架成为上下排列的状态；以及

基板输送机构，设置在所述输送室中，将收容在所述闸室中的所述基板以上下排列的状态统一输送到位于所述接收位置的所述两个支架，

所述支架移动机构包括：

线性运动机构，使所述两个支架分别沿按各个支架设定在规定的轴向上的彼此不同的移动路径移动；以及

转动机构，使所述两个支架绕所述规定的轴向转动，

所述线性运动机构在比所述支架的所述规定的轴向上的两端更靠内侧的位置支承所述支架。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述转动机构使所述两个支架分别独立地转动。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述转动机构通过使所述支架转动，使所述基板在倒伏位置和立起位置之间进行姿势变更，

所述两个支架的转动轴上下错开，使得当使一方的支架处于所述倒伏位置时，所述一方的支架不与另一方的支架的转动轴干涉。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板处理装置还包括基板位置修正机构，所述基板位置修正机构使所述一方的支架处于立起位置时的基板的上下方向的位置与所述另一方的支架处于立起位置时的基板的上下方向的位置一致。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板位置修正机构设置在设于所述闸室中的基板台上，通过使分别放置有上下两个基板的上侧台面和下侧台面中的至少一方相对于另一方相对移动，使所述上侧台面和下侧台面的错开量与因所述两个支架的转动而产生的所述基板的位置的错开量相同。

6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板位置修正机构设置在所述基板输送机构上，通过使分别放置有上下两个基板的上侧输送面和下侧输送面中的至少一方相对于另一方相对移动，使所述上侧输送面和所述下侧输送面的错开量与因所述两个支架的转动而产生的所述基板的位置的错开量相同。

7.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述两个支架包括上侧支架和下侧支架，

所述基板位置修正机构设置在所述支架上、所述转动机构上或所述支架与所述转动机构之间，通过使分别保持有上下两个基板的所述上侧支架和所述下侧支架中的至少一方相对于另一方相对移动，使所述上侧支架和所述下侧支架的错开量与因所述两个支架的转动而产生的所述基板的位置的错开量相同。