[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置在审
申请号: | 201510272658.2 | 申请日: | 2015-05-25 |
公开(公告)号: | CN104834139A | 公开(公告)日: | 2015-08-12 |
发明(设计)人: | 崔贤植 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,包括交叉设置的多条栅线和多条数据线,所述交叉设置的多条栅线和多条数据线限定多个像素区域,每一所述像素区域包括薄膜晶体管,其特征在于,所述阵列基板还包括设置在所述薄膜晶体管和所述数据线上方的第一绝缘层,设置于第一绝缘层上方的金属层和位于金属层上方的第二绝缘层;以及设置在第二绝缘层上方的像素电极和公共电极,所述像素电极和公共电极之间设置有第三绝缘层,每个所述像素区域中的所述公共电极至少包括两个狭缝;其中,所述金属层覆盖所述数据线上方,所述像素电极通过至少贯穿所述第一绝缘层和所述第二绝缘层的过孔与所述薄膜晶体管的漏极电连接。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述金属层通过贯穿所述第二绝缘层和所述第三绝缘层的过孔与所述公共电极电连接。
3.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述金属层包括以下任一种或多种:钼、铜或者铝。
4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述金属层的宽度大于所述数据线的宽度,且所述金属层的宽度中心与所述数据线的宽度中心位于同一直线上。
5.如权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述金属层的宽度为3~4um。
6.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述金属层的边缘与所述数据线的边缘之间的距离为0.8~1.5um。
7.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,相邻数据线之间的距离不大于14um。
8.一种显示面板,其特征在于,包括相对设置的彩色基板和权利要求1~7任一权利要求所述的阵列基板。
9.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求8所述的显示面板。
10.一种制备阵列基板的方法,其特征在于,包括:
形成包括源漏极和数据线的图形;
形成第一绝缘层;
形成金属层,所述金属层位于所述第一绝缘层的上方,且所述金属层覆盖所述数据线上方;
形成第二绝缘层,并形成至少贯穿第一绝缘层和第二绝缘层的过孔;
形成像素电极,所述像素电极位于所述第二绝缘层的上方,且所述像素电极通过至少贯穿所述第一绝缘层和所述第二绝缘层的过孔与所述漏极电连接;
形成第三绝缘层;
形成公共电极,所述公共电极位于第三绝缘层上方,且所述公共电极至少包括两个狭缝。
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,还包括:
形成至少贯穿所述第二绝缘层和第三绝缘层的过孔,所述金属层通过至少贯穿所述第二绝缘层和第三绝缘层的过孔与所述公共电极电连接。
12.如权利要求10或11所述的方法,其特征在于,所述形成包括源漏极和数据线的图形的步骤之前,还包括:
在衬底基板上形成栅极;
在所述栅极上沉积栅绝缘层;
在所述栅绝缘层上形成有源层。
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