[发明专利]一种PC眼镜片镀膜方法有效

专利信息
申请号: 201510269959.X 申请日: 2015-05-25
公开(公告)号: CN104911546B 公开(公告)日: 2017-11-07
发明(设计)人: 周贤建 申请(专利权)人: 瑞之路(厦门)眼镜科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/08
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司35204 代理人: 杨依展
地址: 361000 福建省厦门市厦门*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 pc 眼镜片 镀膜 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于PC眼镜片加工技术领域,具体涉及一种PC眼镜片镀膜方法。

背景技术

PC的化学名称叫聚碳酸脂(polycarbonate),是一种环保型工程塑料。PC材料的特点:重量轻、抗冲击强度高、硬度高、折射指数高、机械性能良好、热塑性好、电绝缘性能良好、不污染环境等优点。PC被广泛应用于Cd/vcd/dvd的光盘、汽车零部件、照明灯具和器材、交通行业的玻璃窗户、电子电器、医疗保健、光学通讯、眼镜镜片制造等众多行业。随着PC眼镜市场逐步扩大,其PC眼镜片也越来越得到消费者的关注。PC眼镜片具有超高的抗破碎性和100%阻挡紫外线,且其镜片薄、透亮、重量轻,但其光学性能和机械性能仍然有待进一步的完善,现有技术多采用镀膜方式进行改善,但效果仍不尽理想。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术缺陷,提供一种PC眼镜片镀膜方法。

本发明的具体技术方案如下:

一种PC眼镜片镀膜方法,包括如下步骤:

(1)将PC眼镜片经强化处理后,洗净,再置于无尘镀膜恒温烤箱中于70℃~95℃烘烤8小时以上;

(2)对步骤(1)烘烤后的PC眼镜片在2.0~2.3×10-5torr的真空度下通氩气的同时进行离子轰击,其中,温度为70~78℃,离子轰击速率为180~190a/sec,时间为2~5min,氩气流量为18-23sccm,时间2~5min;

(3)利用真空蒸发镀膜法在步骤(2)经离子轰击后的PC眼镜片上镀制厚度为2700~2800μm的SiO2层,具体参数为:真空度为2.0~2.3×10-5torr,温度为70~78℃,SiO2固体熔化电压为7~7.3kV,SiO2固体熔化电流为115~155A;

(4)利用真空蒸发镀膜法在步骤(3)镀制的SiO2层上镀制厚度为300~370μm的ZrO2层,具体参数为:真空度为2.0~2.3×10-5torr,温度为70~78℃,ZrO2固体熔化电压为7~7.3kV,ZrO2固体熔化电流为220~260A;

(5)利用真空蒸发镀膜法在步骤(4)镀制的ZrO2层上镀制厚度为100~160μm的SiO2层,具体参数为:真空度为2.0~2.3×10-5torr,温度为70~78℃,SiO2固体熔化电压为7~7.3kV,SiO2固体熔化电流为115~155A;

(6)利用真空蒸发镀膜法在步骤(5)镀制的SiO2层上镀制厚度为820~9000μm的ZrO2层,具体参数为:真空度为2.0~2.3×10-5torr,温度为70~78℃,ZrO2固体熔化电压为7~7.3kV,ZrO2固体熔化电流为220~260A;

(7)利用真空蒸发镀膜法在步骤(6)镀制的ZrO2层上镀制厚度为50~120μm的ITO层,并在通氧气的同时进行离子轰击,具体参数为:真空度为2.0~2.3×10-5torr,温度为70~78℃,ITO固体熔化电压为7~7.4kV,ITO固体熔化电流为10~23A,氧气流量为20-32sccm,时间1~2min,离子轰击速率为180~190a/sec,时间为2~5min;

(8)利用真空蒸发镀膜法在步骤(7)镀制的ITO层上镀制厚度为800~880μm的SiO2层,具体参数为:真空度为2.0~2.3×10-5torr,温度为70~78℃,SiO2固体熔化电压为7~7.3kV,SiO2固体熔化电流为115~155A;

(9)利用真空蒸发镀膜法在步骤(8)镀制的SiO2层上镀制厚度为100~170μm的HT-100层,冷却后即得产品,具体参数为:真空度为2.0~2.3×10-5torr,温度为70~78℃,HT-100固体熔化电压为7~7.4kV,HT-100固体熔化电流为8~22A。

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