[发明专利]显示基板、显示基板的制备方法和显示装置在审
| 申请号： | 201510263087.6 | 申请日： | 2015-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN104808392A | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 左雄灿;张俊瑞 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13363 | 分类号： | G02F1/13363;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板，包括对合设置的彩膜基板、阵列基板以及设置于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层，在所述彩膜基板和所述阵列基板朝向所述液晶层的一侧分别设置有取向层，其特征在于，在所述彩膜基板与所述取向层之间、所述阵列基板与所述取向层之间还包括视角补偿层。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，该所述视角补偿层采用RM材料形成。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述视角补偿层的厚度范围为1μm-3μm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板，其特征在于，在所述彩膜基板和所述阵列基板远离所述液晶层的一侧还分别设置有偏光片。
5.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板，其特征在于，该所述显示基板包括TN型、ECB型或OCB型结构。
6.一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括彩膜基板、阵列基板以及设置于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层，在所述彩膜基板和所述阵列基板朝向所述液晶层的一侧分别形成有取向层，其特征在于，该制备方法还包括在所述彩膜基板与所述取向层之间、所述阵列基板与所述取向层之间形成视角补偿层的步骤。
7.根据权利要求6所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述视角补偿层采用RM材料形成。
8.根据权利要求6所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述视角补偿层的形成包括：
将RM材料通过涂覆方式形成在彩膜基板或阵列基板的一侧；
加热预固化RM材料；
通过UV光配向工艺对RM材料进行定向。
9.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，加热预固化RM材料为恒温加热方式，加热温度范围为115～125℃；UV光波长范围为320nm～420nm。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的显示基板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510263087.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
