[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板，所述衬底基板上设置有遮光金属层和数据线，所述遮光金属层包括第一栅线和遮光层，所述遮光层的上方对应位置设置有第二栅线，所述第一栅线、第二栅线和数据线限定的像素单元包括像素电极和薄膜晶体管。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括绝缘层，所述绝缘层包括缓冲层和第一栅绝缘层，所述缓冲层设置在所述遮光层上，所述第一栅绝缘层设置在所述第一栅线上。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述薄膜晶体管包括有源层、源极、漏极、第一栅极或者第二栅极，所述有源层的构成材料包括多晶硅、非晶硅或者金属氧化物。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层设置在所述衬底基板上，所述有源层设置在所述缓冲层上，所述有源层上设置有第二栅绝缘层，所述第二栅线和第二栅极设置在所述第二栅绝缘层上，所述第二栅线和第二栅极上设置有层间介电层，所述层间介电层上设置有第一过孔和第二过孔，所述源极通过所述第一过孔与所述有源层连接，所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接。

5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一栅线和第一栅极设置在所述衬底基板上，所述有源层设置在所述第一栅绝缘层上，所述有源层上设置有第二栅绝缘层，所述第二栅绝缘层上设置有层间介电层，所述层间介电层上设置有第一过孔和第二过孔，所述源极通过所述第一过孔与所述有源层连接，所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接。

6.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至5任一所述的显示基板。

7.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成遮光金属层，所述遮光金属层包括第一栅线和遮光层；

在所述遮光层的上方对应位置形成第二栅线；

形成数据线、像素电极和薄膜晶体管，所述第一栅线、第二栅线和数据线限定的像素单元包括像素电极和薄膜晶体管。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成遮光金属层的步骤之后包括：

在所述遮光金属层上形成绝缘层，所述绝缘层包括缓冲层和第一栅绝缘层；

所述在所述遮光金属层上形成绝缘层的步骤包括：

在所述遮光层上形成缓冲层，在所述第一栅线上形成第一栅绝缘层。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述薄膜晶体管包括有源层、源极、漏极、第一栅极或者第二栅极，所述有源层的构成材料包括多晶硅、非晶硅或者金属氧化物。

10.根据权利要求9所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在所述遮光层上形成缓冲层的步骤之后包括：

在所述缓冲层上形成所述有源层；

在所述有源层上形成第二栅绝缘层；

所述在所述遮光层的上方对应位置形成第二栅线的步骤包括：

在所述第二栅绝缘层上形成第二栅线的同时，在所述第二栅绝缘层上形成第二栅极；

所述在所述第二栅绝缘层上形成第二栅线的同时，在所述第二栅绝缘层上形成第二栅极的步骤之后包括：

在所述第二栅线和第二栅极上形成层间介电层，所述层间介电层上形成有第一过孔和第二过孔；

在所述层间介电层上形成所述源极和所述漏极，所述源极通过所述第一过孔与所述有源层连接，所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接。

11.根据权利要求9所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成遮光金属层的步骤包括：

在所述衬底基板上形成第一栅线的同时，在所述衬底基板上形成第一栅极；

所述在所述第一栅线上形成第一栅绝缘层的步骤之后包括：

在所述第一栅绝缘层上形成所述有源层；

在所述有源层上形成第二栅绝缘层；

在所述第二栅绝缘层上形成层间介电层，所述层间介电层上形成有第一过孔和第二过孔；

在所述层间介电层上形成所述源极和所述漏极，所述源极通过所述第一过孔与所述有源层连接，所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接。