[发明专利]检测光刻热点的方法

权利要求书

1.一种检测光刻热点的方法，包含：

接收一布局图形数据；

对该布局图形数据进行空间影像模拟，以析取出包含空间影像强度最大值(Imax)、空间影像强度最小值(Imin)、空间影像强度临界值(Ith)以及空间影像强度阵列值(Iarray)的多种空间影像强度指数，其中该空间影像强度阵列值(Iarray)与代表该布局图形数据的给定区域中占多数的决定性规则图形有关；

根据这些空间影像强度指数的运算组合产生出一空间影像检测子，并且该空间影像检测子包含：Imin/Iarray、Imax/Ith和Imin/Ith；以及

根据这些空间影像检测子的数值，判定出所对应的光刻热点位置与种类。

2.如权利要求1所述的检测光刻热点的方法，其中该空间影像检测子还包含空间影像强度斜率(ILS)以及常态化空间影像强度斜率(NILS)。

3.如权利要求2所述的检测光刻热点的方法，其中该空间影像检测子Imin/Iarray对应到线形颈缩或沟渠桥接形态的光刻热点。

4.如权利要求2所述的检测光刻热点的方法，其中该空间影像检测子Imax/Ith对应到沟渠颈缩、线形桥接、或次解析辅助特征化形态的光刻热点。

5.如权利要求2所述的检测光刻热点的方法，其中该空间影像检测子Imin/Ith对应到沟渠桥接或次解析辅助特征化形态的光刻热点。

6.如权利要求2所述的检测光刻热点的方法，其中该空间影像检测子ILS对应到曝光裕度不足形态的光刻热点。

7.如权利要求2所述的检测光刻热点的方法，其中该空间影像检测子NILS对应到曝光裕度不足或图形轮廓劣化形态的光刻热点。

8.如权利要求1所述的检测光刻热点的方法，还包含进行全晶圆的光刻热点检测之后，根据这些空间影像检测子的预定范围以及所判定出的这些光刻热点位置与种类建立一光刻热点数据库。

9.如权利要求1所述的检测光刻热点的方法，其中该布局图形数据是经过光学近接修正的布局图形数据。