[发明专利]基板处理装置和基板处理装置的基板检测方法

说明书

本发明提供一种可靠地检测有无被基板处理装置处理的基板的基板处理装置和基板处理装置的基板检测方法。液处理装置(1)包括：基板保持旋转部(23)，其具有旋转板(23P)和基板支持部(51)；以及液体供给部(24)。旋转板(23P)与旋转轴(23S)相连结，旋转轴(23S)的中央部经由旋转板(23P)的开口(29)向外方暴露。在该旋转轴(23S)的中央部安装有环状的回归反射片(30)。自斜上方向回归反射片(30)照射激光，利用激光投射接收部(26a)接收来自回归反射片(30)的反射光，并利用基板检测部(17a)来检测有无晶圆(W)。

技术领域

本发明涉及一种用于对半导体晶圆、平板显示器用玻璃基板等基板进行处理的基板处理装置和基板处理装置的基板检测方法。

背景技术

在制造半导体集成电路、平板显示器的工序中，使用液体对基板进行液处理。为了进行这种处理而使用单片式的液处理装置，该单片式的液处理装置具有：旋转板；基板支承部，其设于旋转板的周缘、用于支承基板的外周部；液体供给部，其用于对由基板支承部支承的基板供给液体；以及杯部，其用于接收供给到基板上的、因基板的旋转而飞散的液体。

另外，在液处理装置中，设有用于检测有无被基板支承部支承着的基板的检测装置。

专利文献1：日本特许2920855号公报

发明内容

发明要解决的问题

以往，作为用于检测有无设于液处理装置的基板的检测装置设置为利用供给管，该供给管以贯穿设置有基板的旋转板的方式设置。即，自在设置于旋转板的基板的上方设置的光投射部投射光并将该光引导至供给管内，利用位于基板的下方且设于供给管下方的光接收部来接收光。由此来检测有无基板。

然而，在使用以贯穿旋转板的方式设置的供给管来向基板供给例如DIW的情况下，难以将光引导至供给管内，从而不能将光引导至供给管内而不能检测有无基板。

本发明是考虑到这样的点而做出的，其目的在于，提供一种能够可靠地检测有无应该由基板支承部支承的基板的基板处理装置和基板处理装置的基板检测方法。

用于解决问题的方案

本发明提供一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置包括：基板保持旋转部，其具有能够旋转的旋转板和用于将基板支承于所述旋转板的上方的基板支承部；以及基板处理部，其用于对由所述基板支承部支承着的所述基板进行处理，在由所述基板支承部支承着的所述基板的下方配置有环状的回归反射片，在由所述基板支承部支承着的所述基板的上方设有光投射部和光接收部，该光投射部用于自所述回归反射片的斜上方对所述回归反射片投射具有恒定的入射角的入射光，该光接收部用于自所述回归反射片接收向与入射角所对应的方向相反的方向反射的反射光，基板检测部根据被所述光接收部接收的反射光的强度来检测有无所述基板。

本发明提供一种基板处理装置的基板检测方法，该基板处理装置包括：基板保持旋转部，其具有能够旋转的旋转板和用于将基板支承于上方的基板支承部；以及基板处理部，其用于对由所述基板支承部支承着的所述基板进行处理，在由所述基板支承部支承着的所述基板的下方配置环状的回归反射片，在由所述基板支承部支承着的所述基板的上方设置光投射部和光接收部，该光投射部用于自所述回归反射片的斜上方对所述回归反射片投射具有恒定的入射角的入射光，该光接收部用于自所述回归反射片接收向与入射角所对应的方向相反的方向反射的反射光，其特征在于，该基板处理装置的基板检测方法包括以下步骤：利用光投射部自所述回归反射片的斜上方对所述回归反射片投射入射光；利用光接收部接收来自所述回归反射片的反射光；以及基板检测部根据被所述光接收部接收的反射光的强度来检测有无所述基板。

发明的效果