[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括用于显示的透光区和所述透光区外的遮光区，所述遮光区中设置有多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括基底和在所述基底上依次设置的有源层、栅极绝缘层、栅极、钝化层，以及位于所述钝化层上的源极和漏极，其特征在于，所述源极和所述漏极包括导电遮光层和位于所述导电遮光层上的铜层；所述遮光区至少部分位于所述源极和所述漏极之外的位置也设置有所述导电遮光层，这部分导电遮光层用于作为遮光的黑矩阵，防止彩膜混色。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述有源层上方的至少部分区域设置有所述导电遮光层。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述源极和所述漏极外的区域中的所述导电遮光层，部分与所述源极相连，部分与所述漏极相连，且与所述源极、所述漏极相连的所述导电遮光层之间设有间隔。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述栅极包括第一栅极和第二栅极，所述第一栅极和所述第二栅极上方均设置有所述导电遮光层，与所述源极、所述漏极相连的所述导电遮光层之间设置的间隔位于所述第一栅极和所述第二栅极之间处。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光区中还设有引线，所述引线上方的至少部分区域设置有所述导电遮光层。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述铜层与所述导电遮光层图案相同。

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述导电遮光层的材料为钛金属。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述有源层材料为多晶硅。

9.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括彩膜，所述彩膜至少设于所述透光区中。

10.一种显示装置，包括权利要求1-9任意一项所述的阵列基板。