[发明专利]成形模

说明书

技术领域

本发明涉及一种在成形成形品时所使用的成形模。

背景技术

专利文献1(日本特开2011－79261号公报)中公开了一种在由陶瓷构成的基材5的表面8形成有脱模层4的成形模。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-79261号公报

专利文献2：日本特开2010-185095号公报

发明内容

发明要解决的问题

专利文献1所记载的脱模层4的脱模性和防污性优异。另一方面，在专利文献1中使用由陶瓷构成的基材，但在如此的情况下，存在基材的机械加工困难、基材的处理困难(易于产生裂纹、缺损)这样的问题。

本发明是鉴于上述这样的问题而做成的，本发明的目的在于提供一种脱模性和防污性优异且难以产生裂纹、缺损的成形模。

用于解决问题的方案

本发明的成形模是在成形成形品时所使用的成形模。

在本发明的一技术方案中，成形模包括：金属制的基材；以及陶瓷层，其设于基材上，包含氧化钇、氮和4A族元素的阳离子，且与成形品相接触。

在一种实施方式中，成形模还包括介于基材与陶瓷层之间的粘接层。粘接层可以形成为单层，也可以形成为多层。

在本发明的另一技术方案中，成形模包括：金属制的基材；陶瓷层，其包含氧化钇、氮和4A族元素的阳离子，且与成形品相接触；以及中间层，其介于基材与陶瓷层之间。中间层可以形成为单层，也可以形成为多层。

在一种实施方式中，成形模还包括介于基材与中间层之间的粘接层。

在一种实施方式中，成形模还包括介于中间层与陶瓷层之间的粘接层。

在一种实施方式中，中间层形成为多层，在多层中间层中的至少两层中间层之间设有粘接层。

在一种实施方式中，中间层具有硬度比基材的硬度高、且韧性比陶瓷层的韧性高的部分。

在一种实施方式中，中间层至少在陶瓷层侧的表面部分处的硬度比基材的硬度高。

在一种实施方式中，中间层包含缓冲层，该缓冲层的硬度以自基材侧向陶瓷层侧去而变高的方式变化。此外，此处所说的“变化”包含连续的变化、阶段性的变化以及连续与阶段性相组合的变化中的任意一者。

在一种实施方式中，中间层包含缓冲层，其通过使该中间层的组成变化而使该缓冲层的硬度连续地变化。

在一种实施方式中，中间层含有包括M－A系氮化物、碳化物、氧化物的部分，M为钛、铬、镍、锆、铝或者硅，A为氮、碳或者氧。。

在一种实施方式中，粘接层包含具有钛、铬、镍、锆、钇、铝、硅的金属单体、这些金属单体的混合物、或者金属单体的氧化物或含有多种金属单体的氧化物的部分。

此外，在本申请说明书中“硬度”的意思是：使用株式会社岛津制作所制的“动态微型硬度计”(型号：DUH-211S)，将测量条件设为“压头：三棱锥压头(Berkovich型、顶角115°)、自表面的压入深度：0.1μm、负载速度：设定值80(0.8758mN/秒)、负载保持时间：15秒”进行测量得到的值。

发明的效果

采用本发明，能够提供一种脱模性和防污性优异且难以产生裂纹、缺损的成形模。

附图说明

图1是表示本发明的一实施方式的成形模的截面的图。

图2是表示本发明的另一实施方式的成形模的截面的图。

图3是更详细地表示中间层的构造的一例的剖视图。

图4是更详细地表示中间层的构造的另一例的剖视图。

图5是更详细地表示中间层的构造的另一例的剖视图。

图6是表示对本发明的一实施例的成形模和比较例的成形模进行脱模性评价所得到的实验结果的图。

图7是表示使用本发明的一实施例的成形模进行预定次数的成形动作之后的该成形模的底面的照片。

图8是表示使用比较例的成形模进行预定次数的成形动作之后的该成形模的底面的照片。

附图标记说明

10、金属基材；20、陶瓷层；30、中间层；31、31A、31B、缓冲层；32A、32B、32C、32D、粘接层。

具体实施方式