[发明专利]比色装置、掩模构件以及比色系统

权利要求书

1.一种比色装置，其特征在于，具备：

照明受光部，具有光源部和传感器部；

被安装部，用于以覆盖所述照明受光部的方式安装具有窗部的掩模构件；

多个检测部，沿着所述掩模构件在被安装到所述被安装部的中途的阶段中相对于所述被安装部移动的安装方向排列，能够分别检测配置于所述掩模构件的被检测部；以及

识别部，识别与所述多个检测部中的检测出所述被检测部的2个以上的检测部的组合对应的检测模式。

2.根据权利要求1所述的比色装置，其特征在于，

在正在进行所述掩模构件向所述被安装部中的为了执行比色而预先设定的安装位置的安装的中途的安装中途状态下，所述识别部识别与所述多个检测部中的检测出所述被检测部的1个以上的检测部对应的检测模式，

在所述掩模构件向所述安装位置的安装完成的安装完成状态下由所述识别部识别的检测模式与在所述安装中途状态下由所述识别部识别的检测模式不同。

3.根据权利要求1所述的比色装置，其特征在于，

所述多个检测部中的位于所述安装方向上的最里侧的检测部在所述掩模构件向安装位置的安装完成的安装完成状态下检测所述被检测部。

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的比色装置，其特征在于，

所述多个检测部包括3个以上的检测部，

关于所述3个以上的检测部中的两个检测部的所有组合各自的检测部间的距离不同。

5.根据权利要求1～4中的任一项所述的比色装置，其特征在于，还具备：

存储部，按每个检测模式存储在根据由所述传感器部得到的数据计算比色结果数据的比色运算中使用的校正数据；以及

运算部，使用所述存储部中存储的多个所述校正数据中的与由所述识别部识别的检测模式对应的所述校正数据进行所述比色运算。

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的比色装置，其特征在于，

还具备判别部，该判别部判别与由所述识别部识别的检测模式对应的所述掩模构件的种类。

7.根据权利要求1～6中的任一项所述的比色装置，其特征在于，

所述被检测部是磁铁。

8.一种掩模构件，其特征在于，具备：

窗部；

安装部，用于安装到比色装置的被安装部；以及

2个以上的被检测部，沿着在被安装到所述被安装部的中途的阶段中相对于所述被安装部移动的安装方向排列，且能够被所述比色装置的检测部分别检测。

9.根据权利要求8所述的掩模构件，其特征在于，

具备多个被装配部，该多个被装配部能够配置所述2个以上的被检测部，且该多个被装配部沿着所述安装方向排列，

在所述多个被装配部中的、位于所述安装方向上的最前头的被装配部中装配有所述被检测部。

10.根据权利要求8所述的掩模构件，其特征在于，

具备多个被装配部，该多个被装配部能够配置所述2个以上的被检测部，且该多个被装配部沿着所述安装方向排列，

所述多个被装配部包括3个以上的被装配部，

关于所述3个以上的被装配部中的两个被装配部的所有组合各自的被装配部间的距离不同，

所述2个以上的被检测部配置于所述3个以上的被装配部中的至少两个被装配部。

11.根据权利要求8～10中的任一项所述的掩模构件，其特征在于，

所述被检测部是磁铁。

12.一种比色系统，其特征在于，具备：

权利要求1～7中的任一项所述的比色装置；以及

安装于所述比色装置的所述被安装部的权利要求8～11中的任一项所述的掩模构件。