[发明专利]测定装置及测定方法有效
| 申请号: | 201510172904.7 | 申请日: | 2015-04-13 |
| 公开(公告)号: | CN104977470B | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
| 发明(设计)人: | 河室佑贵;半田信久;高桥哲哉 | 申请(专利权)人: | 日置电机株式会社 |
| 主分类号: | G01R27/08 | 分类号: | G01R27/08 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡秋瑾 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 测定 装置 方法 | ||
1.一种测定装置,其特征在于,包括:
测定部,该测定部在向物性互不相同的板状或膜状的多个结构体层叠而成的层叠体的表面提供电信号的状态下,执行对该表面的测定对象部位的电位进行测定的电位测定处理;以及
处理部,该处理部使用由所述电位测定处理测定得到的所述电位的测定值,来执行预先确定的计算处理,由此求得所述层叠体中各所述结构体间的界面的界面电阻值,
所述处理部执行如下处理作为所述计算处理:即,将作为所述界面电阻值的代入值的代入电阻值和作为所述结构体的电阻率的代入值的代入电阻率代入包含有所述界面电阻值和所述结构体的电阻率作为参数的数学式,计算所述电位的计算值,并且边改变该代入电阻值和该代入电阻率,边执行比较该计算值与所述测定值的比较处理,然后将该比较处理中的比较结果满足预先规定的规定条件时的所述代入电阻值作为所述界面电阻值,并将该比较结果满足该规定条件时的所述代入电阻率作为所述电阻率。
2.如权利要求1所述的测定装置,其特征在于,
所述测定部在所述电位测定处理中,在向所述结构体的所述表面的两个信号输入部位提供所述电信号的状态下,对垂直于连接该各信号输入部位的线段且通过各所述信号输入部位的两根直线所夹着并划分得到的所述表面上的划分区域内的部位、即与该各信号输入部位中的某一个之间的间隔距离互不相同的至少三个所述测定对象部位的电位进行测定,
所述处理部对于各所述测定对象部位中的一对测定对象部位的组合不同的多个组计算出该一对测定对象部位的各所述测定值的差分值,并且基于规定了第1比率和第2比率之间关系的关系式,计算出在所述比较处理中最开始代入所述数学式的所述代入电阻值和所述代入电阻率各自的初始值,然后执行该比较处理,其中该第1比率为所述多个组的各所述差分值彼此的比率,该第2比率为根据所述电阻率确定的所述结构体的电阻值与所述界面电阻值的比率。
3.如权利要求2所述的测定装置,其特征在于,
所述测定部在向所述电阻率互不相同的两个所述结构体层叠而成的所述层叠体的该各结构体中该电阻率较高的结构体的所述表面的两个所述信号输入部位提供所述电信号的状态下,对与任意一个所述信号输入部位之间的间隔距离互不相同的三个所述测定对象部位的电位进行测定,
所述处理部基于规定了作为所述多个组的两组的所述第1比率和所述第2比率之间关系的所述关系式,来计算所述初始值。
4.如权利要求3所述的测定装置,其特征在于,
所述处理部将与任意一个所述信号输入部位之间的间隔距离最短的所述测定对象部位作为基准部位,并将该基准部位作为所述两组中的一对所述测定对象部位中的一个,由此来计算所述初始值。
5.如权利要求4所述的测定装置,其特征在于,
所述处理部基于所述关系式,来计算所述初始值,该关系式中将除所述基准部位以外的其他两个所述测定对象部位中的与该基准部位之间的间隔距离较短的第1测定对象部位和该基准部位作为第1组,并将该两个测定对象部位中的与所述基准部位之间的间隔距离较长的第2测定对象部位和该基准部位作为第2组,将所述第1组的所述差分值与该第2组的所述差分值的比率作为所述第1比率,并将所述结构体的所述电阻值与所述界面电阻值的比率作为所述第2比率。
6.如权利要求5所述的测定装置,其特征在于,
各所述测定对象部位设定在连接各所述信号输入部位的所述线段上。
7.如权利要求6所述的测定装置,其特征在于,
所述第2测定对象部位设定于所述线段的中心部。
8.如权利要求2所述的测定装置,其特征在于,
各所述测定对象部位以使得相邻测定对象部位彼此的间隔相互相等的方式进行设定。
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