[发明专利]立体列印机的列印方法及系统有效
| 申请号: | 201510131595.9 | 申请日: | 2015-03-25 |
| 公开(公告)号: | CN104690976B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
| 发明(设计)人: | 郑勇平;蔡世光 | 申请(专利权)人: | 英华达(上海)科技有限公司;英华达(上海)电子有限公司;英华达股份有限公司 |
| 主分类号: | B29C67/00 | 分类号: | B29C67/00;B33Y10/00 |
| 代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人: | 周华霞,王丽琴 |
| 地址: | 201114 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 立体 列印机 列印 方法 系统 | ||
1.一种立体列印机的列印方法,其特征在于,该方法包括:
对立体列印对象模型进行切片,得到各层立体列印对象模型的切片;
对相邻两个切片进行数据差异比较,识别出各层立体列印对象模型墙壁顶部的封闭水平面,记录各切片的封闭水平面;
确定封闭水平面中需要进行修补处理的壁厚位置,作为待处理壁厚位置;
对封闭水平面中的待处理壁厚位置进行变形处理,达到预设壁厚,得到修补后的各层立体列印对象模型的切片。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定封闭水平面中需要进行修补处理的壁厚位置包括:
将列印机最佳列印线宽度表示为W;对封闭水平面进行壁厚测量,将测量得到的所有壁的厚度记作Wi;
将测量得到的厚度Wi与W的整数倍数值进行比较分析,如果Wi不满足为W的整数倍数值,则将相应Wi对应的壁厚位置确定为待处理壁厚位置。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对封闭水平面中的待处理壁厚位置进行变形处理采用如下方式计算:
(1)m<n,将待处理壁厚位置的壁厚调整为n;(2)(x-1)n<m<xn(a<=x<=b),将待处理壁厚位置的壁厚调整为xn,(3)(x-1)n<m<xn(x>b),将待处理壁厚位置的壁厚调整为(x-1)n;
其中,m为待处理壁厚位置的实际壁厚,n为列印喷头标准宽度,a、b为大于1的自然数。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对封闭水平面中的待处理壁厚位置进行变形处理包括:
对封闭水平面内轮廓中的待处理壁厚位置进行变形处理,或者,
对封闭水平面外轮廓中的待处理壁厚位置进行变形处理。
5.如权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,所述对封闭水平面中的待处理壁厚位置进行变形处理,达到预设壁厚之后,该方法还包括:
对封闭水平面轮廓进行平滑过渡。
6.如权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,所述得到修补后的各层立体列印对象模型的切片之后,该方法还包括:
对修补后的各层立体列印对象模型的切片,进行立体列印。
7.一种立体列印机的列印系统,其特征在于,该系统包括模型分层模块、封闭水平面分析模块和模型修补处理模块;
所述模型分层模块,对立体列印对象模型进行切片,得到各层立体列印对象模型的切片;
所述封闭水平面分析模块,对相邻两个切片进行数据差异比较,识别出各层立体列印对象模型墙壁顶部的封闭水平面,记录各切片的封闭水平面;确定封闭水平面中需要进行修补处理的壁厚位置,作为待处理壁厚位置;
所述模型修补处理模块,对封闭水平面中的待处理壁厚位置进行变形处理,达到预设壁厚,得到修补后的各层立体列印对象模型的切片。
8.如权利要求7所述的系统,其特征在于,所述封闭水平面分析模块包括壁厚检测子模块,将列印机最佳列印线宽度表示为W;对封闭水平面进行壁厚测量,将测量得到的所有壁的厚度记作Wi;将测量得到的厚度Wi与W的整数倍数值进行比较分析,如果Wi不满足为W的整数倍数值,则将相应Wi对应的壁厚位置确定为待处理壁厚位置。
9.如权利要求7所述的系统,其特征在于,所述模型修补处理模块对封闭水平面中的待处理壁厚位置进行变形处理采用如下方式计算:(1)m<n,将待处理壁厚位置的壁厚调整为n;(2)(x-1)n<m<xn(a<=x<=b),将待处理壁厚位置的壁厚调整为xn,(3)(x-1)n<m<xn(x>b),将待处理壁厚位置的壁厚调整为(x-1)n;其中,m为待处理壁厚位置的实际壁厚,n为列印喷头标准宽度,a、b为大于1的自然数。
10.如权利要求7所述的系统,其特征在于,所述模型修补处理模块,对封闭水平面内轮廓中的待处理壁厚位置进行变形处理,或者,对封闭水平面外轮廓中的待处理壁厚位置进行变形处理。
11.如权利要求7至10中任一项所述的系统,其特征在于,所述模型修补处理模块对封闭水平面中的待处理壁厚位置进行变形处理,达到预设壁厚之后,还对封闭水平面轮廓进行平滑过渡。
12.如权利要求7至10中任一项所述的系统,其特征在于,该系统还包括列印模块,对修补后的各层立体列印对象模型的切片,进行立体列印。
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