[发明专利]感光性聚硅氧烷组合物及其应用

说明书

本发明提供了一种感光性聚硅氧烷组合物及由该感光性硅氧烷组合物所形成的保护膜，其用于形成在TFT基板上使用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材，该保护膜具有ITO图案不易视认与低温固化佳的特性。该感光性硅氧烷组合物包含：聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、选自由热酸发生剂及热碱发生剂所组成的群中的至少一种化合物(C)、无机粒子(D)以及溶剂(E)。

技术领域

本发明提供了一种适用于液晶显示组件、有机EL显示组件等的TFT基板上使用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材的正型感光性硅氧烷组合物，及由其形成的保护膜、及具有该保护膜的组件。其中，特别是用正型感光性聚硅氧烷组合物可以制造一种在曝光、显影后形成的具有ITO图案不易视认与低温固化佳的特性的保护膜。

背景技术

近年来，在液晶显示器或有机电激发光显示器等领域中，为了提高清晰度和分辨率，一般可以通过增加显示装置的开口率而达到(如日本特许第2933879号公报所揭示)。通过在透明的TFT基板中使用的平坦化膜上形成保护膜，可使像素电极与数据线重叠，与现有技术相比该技术可提高显示装置的开口率。

TFT基板上使用的平坦化膜的材料必须具有高耐热性、高透明性、低诱电性，因此本领域通常使用醌二叠氮化合物和酚醛树脂的组合材料(如日本特开平第7-98502号公报所揭示)或醌二叠氮化合物和丙烯酸类树脂的组合材料制备TFT基板上使用的平坦化膜(如日本特开平第10-153854及特开2001-281853号公报所揭示)，然而前述材料的耐热性并不理想，再者，当将基板进行高温处理时，还会使固化膜黄化进而造成透明度低下的问题。

聚硅氧烷化合物为具有高耐热性、高透明性、低诱电性的材料。正型聚硅氧烷化合物通过与醌二叠氮化合物结合，而使其具备感光性，其结合方式为以聚硅氧烷化合物末端具有的酚性烃基与醌二叠氮化合物结合(如日本特开第2003-255546号公报所揭示)、或通过热环化加成反应来添加羧基和酚羟基以结合醌二叠氮化合物和硅氧烷聚合物(如日本特许2648969号公报所揭示)。然而这些材料因含有大量的醌二叠氮化合物及存在于聚硅氧烷化合物中的酚羟基，涂膜过程可能会产生白化现象或在热固化时产生黄化现象，而无法作为高透明性的材料。再者，这些材料的透明性低，而使图案形成时的灵敏度降低。此外，这些材料的ITO图案易视认性与高温固化的要求均无法令业界所接受。

因此，目前本领域仍需开发出一种ITO图案不易视认与低温固化良好的感光性聚硅氧烷组合物，该组合物的开发有利于液晶显示组件、有机显示组件的发展。

发明内容

本发明提供了特殊的聚硅氧烷聚合物、热酸发生剂或热碱发生剂及无机粒子的成分，通过这些组分反应得到ITO图案不易视认与低温固化良好的感光性聚硅氧烷组合物。

因此，本发明提供一种感光性聚硅氧烷组合物，其包含：

聚硅氧烷(A)；

邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；

化合物(C)，其是选自由热酸发生剂及热碱发生剂所组成的群；

无机粒子(D)，其中该无机粒子(D)是以第四族元素的氧化物为主要成分；以及

溶剂(E)；

其中该聚硅氧烷(A)是由下列结构式(1)所表示的硅烷化合物经加水分解及部分缩合反应而得的共聚物：

Si(R¹⁰)_W(OR¹¹)_4-W 结构式(1)

其中：