[发明专利]感光性聚硅氧烷组合物及其应用

权利要求书

1.一种感光性聚硅氧烷组合物，其包含：

聚硅氧烷A；

邻萘醌二叠氮磺酸酯B；

化合物C；

无机粒子D，其中该无机粒子D是以第四族元素的氧化物为主要成分，其中，所述第四族元素为钛或锆；以及

溶剂E；

其中所述聚硅氧烷A是由下列结构式1所表示的硅烷化合物经加水分解及部分缩合反应而得的共聚物：

Si(R¹⁰)_W(OR¹¹)_4-W 结构式1

其中：

R¹⁰为选自由氢、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含酸酐基的烷基、含环氧基的烷基及含环氧基的氧烷基所组成的群，且至少一个R¹⁰是选自由含酸酐基的烷基、含环氧基的烷基及含环氧基的氧烷基所组成的群；

R¹¹为选自由氢、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基及碳数为6至15的芳香基所组成的群；及

w为0、1、2或3；

其中所述化合物C为下列结构式3所示的化合物或其盐类衍生物：

结构式3

其中：

m表示2至6的整数；及

R³¹、R³²分别独立表示氢原子、碳数为1至8的烷基、碳数为1至6的可具有取代基的羟烷基、或碳数为2至12的二烷基胺基。

2.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，基于该聚硅氧烷A的使用量为100重量份，该邻萘醌二叠氮磺酸酯B的使用量为5至35重量份；该化合物C的使用量为0.01至3重量份；该无机粒子D的使用量为30至200重量份；该溶剂E的使用量为100至1000重量份。

3.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，所述无机粒子D的粒径大小为1nm至60 nm。

4.一种在基板上形成薄膜的方法，其包含使用权利要求1至3任一项所述的感光性聚硅氧烷组合物施于该基板上。

5.一种基板上的薄膜，该薄膜是根据权利要求4所述的方法所制得。

6.根据权利要求5的薄膜，该薄膜为液晶显示组件或有机电激发光显示器中TFT基板上使用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材的保护膜。

7.一种装置，该装置包含根据权利要求5或6的薄膜。