[发明专利]显示面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种显示面板及其制造方法。

背景技术

液晶显示器具有高画质、体积小、重量轻、低电压驱动、低消耗功率及应用范围广等优点，因此已取代阴极射线管(Cathode Ray Tube,CRT)成为新一代显示器的主流。传统的液晶显示面板是由一具有彩色滤光层的彩色滤光基板、一薄膜晶体管阵列基板(TFT Array Substrate)以及一配置于此两基板间的液晶层所构成。为了提升面板的解析度与像素的开口率，并且避免彩色滤光基板与薄膜晶体管阵列基板接合时的对位误差，现今更提出了将彩色滤光层直接整合于薄膜晶体管阵列基板(Color Filter on Array,COA)上的技术。为了遮蔽液晶显示面板内的走线，通常会在液晶显示面板内设置黑矩阵层，以及防止金属走线反射外界光线，使得使用者能看到显示面板的内部走线。然而，黑矩阵层将会降低显示面板内背光原件的光穿透率，使得像素的开口率降低。

发明内容

本发明提供一种显示面板及其制造方法，其可以增加像素的开口率。

本发明提供一种显示面板的制造方法，包括在一第一基板上形成一图案化金属材料层，并对图案化金属材料层进行一氧化程序，以形成一图案化金属层以及覆盖图案化金属层的一金属氧化物层，其中图案化金属层包括一上表面以及位于上表面两侧的侧表面，金属氧化物层覆盖图案化金属层的上表面以及侧表面。在第一基板上形成多个像素结构，且像素结构与图案化金属层电性连接。在第一基板的对向设置一第二基板，且于第一基板与第二基板之间形成一显示介质。

本发明提供一种显示面板，包括一第一基板、一第二基板以及一显示介质。第一基板上包括设置有一像素阵列，且像素阵列包括一图案化金属层、一金属氧化物层以及多个像素结构。图案化金属层包括一上表面以及位于上表面两侧的侧表面。金属氧化物层覆盖图案化金属层的上表面以及侧表面，其中金属氧化物层的材料的至少其中之一为图案化金属层的氧化物。像素结构与图案化金属层电性连接。第二基板位于第一基板的对向，且显示介质位于第一基板与第二基板之间。

基于上述，本发明的显示面板于图案化金属层的上表面及侧表面设置金属氧化物层，使得图案化金属层能得到遮蔽而不会反射外界光线，藉此取代黑矩阵的设置。由于本发明的显示面板不需要设置黑矩阵层，因此相较于传统的显示面板来说可以达到更高的像素开口率并能减少一道光掩模工艺，且同时具有降低工艺复杂度以及工艺成本的优点。

为了让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附附图作详细说明如下。

附图说明

图1A是根据本发明一实施例的显示面板的剖面示意图。

图1B是根据本发明另一实施例的显示面板的剖面示意图。

图2A是图1A以及图1B的显示面板中的像素结构的上视示意图。

图2B是图1A以及图1B的显示面板中的彩色滤光层的上视示意图。

图3A至3I是根据图2的剖线A-A’的剖面流程示意图。

图4A至4F是根据图2的剖线B-B’的剖面流程示意图。

图5A以及图5B是根据图2的另一实施例的剖线A-A’以及B-B’的剖面示意图。

图6A以及图6B是根据图2的又一实施例的剖线A-A’以及B-B’的剖面示意图。

图7是根据图3C中的像素结构的第一区域的局部放大图。

图8是根据图3C中另一实施例的像素结构的第一区域的局部放大图。

图9是根据图3C中又一实施例的像素结构的第一区域的局部放大图。

图10是根据本发明一实施例的氧化后的图案化金属材料层的透射电子显微镜(TEM)放大图。

其中，附图标记说明如下：

10:显示面板

100:第一基板

200:第二基板

300:像素阵列

305:图案化金属材料层

310:图案化金属层

310a第一金属材料

310b:第二金属材料

310c:第三金属材料

320:金属氧化物层

330:栅绝缘层

335:图案化金属材料层

340:图案化金属层

350:金属氧化物层

360:绝缘层

370:像素电极

400:显示介质

500:彩色滤光层

500A:第一彩色滤光图案