[发明专利]一种光线入射角度检测方法有效

专利信息
申请号: 201510106944.1 申请日: 2015-03-12
公开(公告)号: CN104729456B 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 凌杨;李金鹏;齐洋;周建;王迪;张小平 申请(专利权)人: 湖州佳格电子科技股份有限公司
主分类号: G01C1/00 分类号: G01C1/00
代理公司: 湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙)33232 代理人: 裴金华
地址: 313000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光线 入射 角度 检测 装置 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及光线传感器,特别涉及一种光线入射角度检测装置及方法。

背景技术

现有技术,如申请公布号为CN101074871A的发明专利申请所公开采用PSD的光电倾角测量装置,是一种采用PSD(位置敏感探测器)和半导体激光测量倾角的装置,将分光折转镜组作为固体摆,同时采用PSD作为检测器件,以半导体激光作为检测光源,利用PSD的位置探测功能,最终实现了较大范围在线精确测量倾角,作为一种光电检测装置与计算机技术结合可用于倾角的动态高精度检测。

然而,此种测量装置,型号少,价格贵,大多是用于军用需求,较少考虑民用需求,因此,较难普及。

发明内容

本发明的目的是提供一种光线入射角度检测方法,能简单有效的检测光线入射角度。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:一种光线入射角度检测方法,包括:

(1)设置两个光敏器件,假定入射光线上任意一点相对于两个所述光敏器件受光面的位置变化所形成的轨迹处于同一平面;

(2)沿入射光的投射方向,其中一个光敏器件在另一个光敏器件受光面所在平面形成投影;

(3)其中一个光敏器件的受光面始终处于完全受光照状态,另一个光敏器件的受光面的实际受光面积随入射光线的角度变化而变化,且使该光敏器件的实际受光面积变化的因素,仅在于入射光线在该光敏器件受光面上的照射长度,且该照射长度所在方向重合或平行于入射光线上任意一点相对于两个所述光敏器件受光面的位置变化所形成的轨迹所在平面;

(4)检测两个光敏器件的电流值;

(5)应用公式

当两个光敏器件平行设置,且在垂直于光敏器件受光面方向上,两者不相重叠时,应用公式,如下,

S1实际/S2=K1*I1/K2*I2=L1实际/L2

K1=K2

Tanα=x/(L2+ L1实际);

S1实际为其中一个光敏器件的当前实际受光面积,S2为另一个光敏器件的受光面积,该光敏器件的受光面始终处于完全受光照状态;

K1为其中一个光敏器件的感光系数;K2为另一个光敏器件的感光系数,两个光敏器件的感光系数相同;

L1实际为入射光线在其中一个光敏器件受光面的实际照射长度,L2为入射光线在另一个光敏器件受光面的照射长度,该光敏器件的受光面积始终处于完全受光照状态;

x为两个光敏器件受光面之间的垂直距离;

α为入射光线的入射角度;

当两个光敏器件平行设置,且在垂直于光敏器件受光面方向上,两者存在相重叠区域时,应用公式,如下,

S1实际/S2=K1*I1/K2*I2=L1实际/L2

K1=K2

Tanα=x/[L重叠-(L1-L1实际)];

S1实际为其中一个光敏器件的当前实际受光面积,S2为另一个光敏器件的受光面积,该光敏器件的受光面始终处于完全受光照状态;

K1为其中一个光敏器件的感光系数;K2为另一个光敏器件的感光系数,两个光敏器件的感光系数相同;

L1实际为入射光线在其中一个光敏器件受光面的实际照射长度,L1为该光敏器件受光面上的理论照射长度;

L2为入射光线在另一个光敏器件受光面的照射长度,该光敏器件的受光面积始终处于完全受光照状态;

L重叠为两个光敏器件在垂直于光敏器件受光面方向上的重叠长度,且该重叠长度重合或平行于入射光线上任意一点相对于两个所述光敏器件受光面的位置变化所形成的轨迹所在平面;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖州佳格电子科技股份有限公司,未经湖州佳格电子科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510106944.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top