[发明专利]一种小尺寸像元量子阱红外焦平面光敏元芯片有效
申请号: | 201510099725.5 | 申请日: | 2015-03-08 |
公开(公告)号: | CN104810378B | 公开(公告)日: | 2018-07-20 |
发明(设计)人: | 王国东;张利伟;刘小莲;朱红伟;孙俊岭;杨莹丽 | 申请(专利权)人: | 河南理工大学 |
主分类号: | H01L27/144 | 分类号: | H01L27/144;H01L31/09;H01L31/0232 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 454003 河南省焦作*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 尺寸 量子 红外 平面 光敏 芯片 | ||
1.一种小尺寸像元量子阱红外焦平面光敏元芯片,其特征在于,在GaAs衬底上面有透射光栅,透射光栅的厚度为40~100nm,透射光栅是在金薄膜中刻蚀出M×N个凹字型光栅孔并在凹字型光栅孔中填充GaAs构成;
透射光栅上面有n型GaAs下接触层,n型GaAs下接触层上面有M×N个像元,每个像元的边长为a,每个像元位于一个凹字型光栅孔的正上方;
n型GaAs下接触层上面有金/锗/镍合金公共下电极,该金/锗/镍合金公共下电极是一环形电极,其环绕整个光敏元芯片,只在光敏元芯片边缘引出,作为光敏元芯片中所有像元的公共下电极;
所述的像元由以下几部分构成:
一GaAs/AlGaAs多量子阱层;
一n型GaAs上接触层,该n型GaAs上接触层位于GaAs/AlGaAs多量子阱层之上;
一金反射层,该金反射层位于n型GaAs上接触层之上;
一金/锗/镍合金上电极,该金/锗/镍合金上电极位于金反射层之上;
一二氧化硅钝化层,该二氧化硅钝化层位于n型GaAs下接触层、GaAs/AlGaAs多量子阱层、n型GaAs上接触层、金反射层、金/锗/镍合金上电极、金/锗/镍合金公共下电极的两侧。
2.根据权利要求1所述的一种小尺寸像元量子阱红外焦平面光敏元芯片,其特征在于,所述的M×N个凹字型光栅孔在金薄膜中是二维均匀分布的,其周期为p=λ/n,其中λ为入射光波长,n为GaAs的折射率。
3.根据权利要求1所述的一种小尺寸像元量子阱红外焦平面光敏元芯片,其特征在于,所述的凹字型光栅孔,其边长为a,p/2<a<p;在凹字型光栅孔一边的中点有边长为b的正方形凹槽,b=a/3,正方形凹槽中心距凹字型光栅孔中心的距离为b。
4.根据权利要求1所述的一种小尺寸像元量子阱红外焦平面光敏元芯片,其特征在于,所述的M×N个凹字型光栅孔,其中M和N为正整数,M和N的值可依据实际需要来确定。
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