[发明专利]接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法有效
申请号: | 201510097408.X | 申请日: | 2015-03-05 |
公开(公告)号: | CN104898324B | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 西部幸伸;矶明典 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子株式会社 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 安香子,黄剑锋 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 方法 | ||
技术领域
本发明的实施方式涉及接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法。
背景技术
例如,在液晶显示装置的制造工序中,有通过取向处理使液晶分子取向为希望的方向的工序。作为该液晶的取向处理方法,已知有在形成有作为电极的透明导电层的基板上涂敷聚酰亚胺树脂、硬化而形成树脂层后,通过将该树脂层的表面用打磨(rubbing)布向希望的一方向摩擦而对液晶分子赋予取向限制力的打磨法。此外,还已知有在基板上形成聚酰亚胺树脂层后,对该聚酰亚胺树脂层照射偏振光,与偏振方向或光入射方向相关地对液晶分子赋予取向限制力的光取向法。
但是,打磨法由于在打磨辊上卷绕由尼龙树脂类或乙烯树脂类的纤维制作的打磨布,用卷绕在该打磨辊上的打磨布将树脂层的表面机械地摩擦,所以从打磨布产生微小的尘埃等,有由于该尘埃而显示品质下降的问题。因此,需要在进行打磨处理后用处理液将基板清洗。
另一方面,通过光取向法得到的液晶取向膜与通过打磨得到的膜相比,对于高分子液晶取向膜的取向方向的各向异性小。如果各向异性小,则不能得到充分的液晶取向性,存在当成为产品时发生产生余像等问题的缺点。
发明内容
本发明的目的是提供一种提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性且能够形成均匀的液晶取向膜的接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法。
有关技术方案的接液处理装置,对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行接液处理,其特征在于,具有:保持机构,保持上述基板;第1喷嘴,具备将气泡除去的机构,对上述基板供给各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜;至少一个第2喷嘴,是向上述基板供给各向异性提高液的喷嘴;以及输送机构,使上述基板和上述第1喷嘴及第2喷嘴相对地移动;上述第2喷嘴设置在第1喷嘴的基板输送方向下游侧,并且设置在能够对存在通过上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给各向异性提高液的位置。
此外,也可以是,上述接液处理装置中,上述各向异性提高液至少是乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种。
此外,也可以是,上述接液处理装置中,上述输送机构在上述基板位于上述第1喷嘴的输送方向下游侧的定时将输送停止一定时间;上述第1喷嘴在上述输送机构停止基板输送的定时,停止上述各向异性提高液的供给;上述第2喷嘴在上述输送机构停止基板输送的定时,将上述各向异性提高液的供给切换为间歇供给。
此外,也可以是,上述接液处理装置中,上述第2喷嘴将被供给到上述基板后被回收的上述各向异性提高液再次向上述基板供给。
此外,也可以是,上述接液处理装置中,上述第2喷嘴将被供给到上述基板后被回收的上述各向异性提高液再次向上述基板供给。
此外,也可以是,上述接液处理装置中,具有第3喷嘴,该第3喷嘴设置在上述第2喷嘴的基板输送方向下游侧,并且对存在通过上述第2喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给不被循环供给的各向异性提高液。
此外,也可以是,上述接液处理装置中,具有回收从上述第1喷嘴、上述第2喷嘴和上述第3喷嘴供给并供给到上述基板的表面上的上述各向异性提高液的罐箱;上述罐箱具有分隔部,该分隔部用于将上述罐箱划分为主要回收从上述第1喷嘴供给的上述各向异性提高液的第1区域、以及主要回收从上述第3喷嘴供给的上述各向异性提高液的第2区域;在上述罐箱的壁面,具有用于将贮存于上述第1区域的上述各向异性提高液供给到上述第1喷嘴的循环配管。
有关技术方案的接液处理装置,对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行接液处理,其特征在于,具有:第1处理单元,具备第1喷嘴和液膜除去喷嘴,上述第1喷嘴具备将气泡除去的机构,对上述基板供给至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜,上述液膜除去喷嘴为了将由上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜除去而对上述基板的表面供给气体;第2处理单元,具备至少一个第2喷嘴,该第2喷嘴是向上述基板供给各向异性提高液的喷淋喷嘴;以及输送机构,具有保持上述基板的保持机构,使上述第1处理单元及第2处理单元相对地移动;上述第1处理单元被连续设置多个。
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