[发明专利]接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法

权利要求书

1.一种接液处理装置，对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行接液处理，其特征在于，具有：

第1喷嘴，具备将气泡除去的机构，对上述基板供给各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜；

至少一个第2喷嘴，是对上述基板供给各向异性提高液的喷嘴；以及

输送机构，具有保持上述基板的保持机构，使上述基板和上述第1喷嘴及第2喷嘴相对地移动；

上述第2喷嘴设置在第1喷嘴的基板输送方向下游侧，并且设置在能够对存在由上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给各向异性提高液的位置。

2.如权利要求1所述的接液处理装置，其特征在于，

上述各向异性提高液至少是乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种。

3.如权利要求1或2所述的接液处理装置，其特征在于，

上述输送机构在上述基板位于上述第1喷嘴的输送方向下游侧的定时将输送停止一定时间；

上述第1喷嘴在上述输送机构停止基板输送的定时，停止上述各向异性提高液的供给；

上述第2喷嘴在上述输送机构停止基板输送的定时，将上述各向异性提高液的供给切换为间歇供给。

4.如权利要求1或2所述的接液处理装置，其特征在于，

上述第2喷嘴将被供给到上述基板后被回收的上述各向异性提高液再次向上述基板供给。

5.如权利要求3所述的接液处理装置，其特征在于，

上述第2喷嘴将被供给到上述基板后被回收的上述各向异性提高液再次向上述基板供给。

6.如权利要求4所述的接液处理装置，其特征在于，

具有第3喷嘴，该第3喷嘴设置在上述第2喷嘴的基板输送方向下游侧，并且对存在由上述第2喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给不被循环供给的各向异性提高液。

7.如权利要求6所述的接液处理装置，其特征在于，

具有回收从上述第1喷嘴、上述第2喷嘴和上述第3喷嘴供给并被供给到上述基板的表面上的上述各向异性提高液的罐箱；

上述罐箱具有分隔部，该分隔部用于将上述罐箱划分为主要回收从上述第1喷嘴供给的上述各向异性提高液的第1区域、以及主要回收从上述第3喷嘴供给的上述各向异性提高液的第2区域；

在上述罐箱的壁面，具有用于将贮存于上述第1区域的上述各向异性提高液供给到上述第1喷嘴的循环配管。

8.一种接液处理装置，对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行接液处理，其特征在于，具有：

第1处理单元，具备第1喷嘴和液膜除去喷嘴，上述第1喷嘴具备将气泡除去的机构，对上述基板供给至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜，上述液膜除去喷嘴为了将由上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜除去而对上述基板的表面供给气体；

第2处理单元，具备至少一个第2喷嘴，该第2喷嘴是对上述基板供给上述各向异性提高液的喷淋喷嘴；以及

输送机构，具有保持上述基板的保持机构，使上述基板和上述第1处理单元及第2处理单元相对地移动；

上述第1处理单元被连续设置多个。

9.一种基板处理装置，对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行处理，其特征在于，具有：

接液处理单元，具备第1喷嘴和至少一个第2喷嘴，上述第1喷嘴具备将气泡除去的机构，对上述基板供给至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜，上述第2喷嘴是对上述基板供给上述各向异性提高液的喷淋喷嘴；

冲洗处理单元，具有喷淋喷嘴，该喷淋喷嘴供给将由上述接液处理单元形成在上述基板上的上述液膜置换的冲洗液；

干燥单元，具有狭缝喷嘴，该狭缝喷嘴对由上述冲洗处理单元供给了冲洗液的上述基板供给气体；以及

输送机构，具有保持上述基板的保持机构，使上述基板、上述第1喷嘴和上述第2喷嘴及上述喷淋喷嘴相对地移动；

上述第2喷嘴设置在第1喷嘴的基板输送方向下游侧，并且设置在能够对存在由上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给上述各向异性提高液的位置。