[发明专利]中空缓冲驱动装置

说明书

【技术领域】

本发明是关于一种调整装置，特别是指一种用于供输送流体的输送管路安装，并能调整输送管路出口至目标位置的中空缓冲驱动装置，其系可应用于半导体晶圆、太阳能基板、显示器玻璃基板、LED基板等平板状基板的制程，但并不限于此等制程，并于制程中使用不同化学品进行单片旋转蚀刻、清洗、干燥等程序时，携带液体或气体供应至基板上方，配合程控升降或左右旋转的涂布或喷洒的机构。

【背景技术】

习知技术中，已存在有许多调整装置，以供输送管路配至于其中，并将输送管路中的加工用流体依需求喷布于加工件。然而，这些调整装置在其构造上往往需要在其基座或其它构件上额外架设一机架通道，方能供输送管路穿设安装，进而造成调整装置的构造较为复杂，而且更糟的是，输送管路的部分可能有显露于管路支撑单元外部，使得输送管路因外界的环境影响而容易有裂化或遭碰撞而破损等问题，进而造成输送管路内部流体逸失；或者，虽然部分调整装置不具有额外的机架通道，并改以其它方式装设输送管路，但仍有输送管路的部分显露于外界的情况。

图8显示一先前技术的管路调整装置1001A具有额外的支架构造，其具有一基座1010A、一升降气压缸1012A、一旋转机构单元1014A、一管路支撑单元1016A、及一机架通道1300A。升降气压缸1012A的下方安装至基座1010A，并于其上方有一升降座1020A；旋转机构单元1014A与管路支撑单元1016A安装至升降座1020A，以当升降气压缸1012A做动时，旋转机构单元1014A及管路支撑单元1016A会与升降座1020A一同相对基座1010A向上或向下的做动；旋转机构单元1014A系用于转动管路支撑单元1016A，以调整输送管路出口1100A的位置。其中，基座1010A与升降座1020A间形成一机架通道1300A，且机架通道1300A系与基座1010A或升降座1020A的至少一者为可滑动地连接；一输送管路1090A系可由基座1010A下方通过机架通道1300A至管路支撑单元1016A中。然而，此先前技术，在一方面，因机架通道1300A系由两片状柱体、基座1010A、及升降座1020A所界定的一开放空间，而造成输送管路1090A容易与外部环境接触的问题；在另一方面，因需要额外的升降座1020A与机架通道1300A的构造，造成整体构造较为复杂的问题。

图9显示另一先前技术的管路调整装置1001B具有额外的支架构造，其具有一基座(未显示)、一升降气压缸1012B、一旋转机构单元1014B、一管路支撑单元1016B、及一机架通道1300B。一升降气压缸1012B安装至该基座，一升降座1020B安装至升降气压缸1012B的上方；旋转机构单元1014B与管路支撑单元1016B安装至升降座1020B的上方；旋转机构单元1014B系用于转动管路支撑单元1016B，以调整输送管路出口1100B的位置。其中，升降座1020B间形成一机架通道1300B；一输送管路1090B系可由升降座1020B下方通过机架通道1300B至管路支撑单元1016B中。然而，此先前技术，在一方面，其输送管路1090B容易于升降座1020B下方发生显露于外部环境的问题；在另一方面，因需要额外的升降座1020B与机架通道1300B的构造，造成整体构造较为复杂的问题。

图10显示再一先前技术的管路调整装置1001C，其具有一基座(未显示)、一升降气压缸1012C、一旋转机构单元1014C、及一管路支撑单元1016C。其中，其输送管路1090C系从管路支撑单元1016C的一端进入；虽然其不具有如图8-9的管路调整装置1001A、1001B的机架通道1300A、1300B等较复杂的构造，但其输送管路1090C的部分仍然显露于外部环境中，甚至其输送管路1090C显露于外部的程度较前述的先前技术(如图8-9)要更多。

【发明内容】

为了解决上述问题，本发明目的的一系提供一种中空缓冲驱动装置，利用一中空活塞杆或一中空活塞杆与一缸体以形成一第一通道，大幅简化机构，使得整体装置的配置更为紧密，更使安装于该第一通道中的输送管路能更佳地避免显露于外部环境，并藉以达到美观、降低成本与减少装置的目的。