[发明专利]一种柔性显示装置及其制作方法在审
申请号: | 201510022265.6 | 申请日: | 2015-01-16 |
公开(公告)号: | CN104600029A | 公开(公告)日: | 2015-05-06 |
发明(设计)人: | 党鹏乐;张小宝;张秀玉;丁立薇;姜海斌;刘周英;胡思明;杨楠;张婷婷;朱晖 | 申请(专利权)人: | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;H01L21/762;H01L27/12 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 马廷昭 |
地址: | 215300 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柔性 显示装置 及其 制作方法 | ||
1.一种柔性显示装置制作方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:
步骤一、在柔性基板上制作TFT层,将所述TFT层划分为像素区和像素间隔区,所述像素间隔区以行和列的方式间隔出多行多列的像素区;
步骤二、将所述像素间隔区的TFT层刻蚀直至柔性基板处,在经刻蚀后的像素间隔区内填充第一有机物平坦化层;
步骤三、在所述像素区和像素间隔区上制作金属线,所述金属线跨越所述像素间隔区的第一有机物平坦化层实现相邻像素区的电连接;
步骤四、在实现相邻像素电连接的TFT层上制作发光器件,所述发光器件包括像素单元,所述像素单元在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素区在柔性基板上的投影重叠,各像素单元之间的区域在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素间隔区在柔性基板上的投影重叠。
2.如权利要求1所述的柔性显示装置制作方法,其特征在于,在所述步骤三还包括如下工艺:在所述像素区制作通孔,所述金属线跨越所述像素间隔区通过所述通孔实现相邻像素区的电连接。
3.如权利要求1或2所述的柔性显示装置制作方法,其特征在于,在所述步骤三与步骤四之间进行如下工艺:在所述实现相邻像素电连接的TFT层上制作第二有机物平坦化层,覆盖所述金属线。
4.如权利要求3所述的柔性显示装置制作方法,其特征在于,所述第一有机物平坦化层与第二有机物平坦化层的材质为聚酰亚胺。
5.一种柔性显示装置,其特征在于,包括:
柔性基板;
设于所述柔性基板上的TFT层,所述TFT层包括像素区和像素间隔区,所述像素区被所述像素间隔区间隔成多行多列的阵列,所述像素间隔区内设有第一有机物平坦化层,各相邻的像素区通过跨越所述第一有机物平坦化层上的金属线电连接;
设于所述TFT层上的发光器件,所述发光器件包括像素单元,所述像素单元在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素区在柔性基板上的投影重叠,各像素单元之间的区域在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素间隔区在柔性基板上的投影重叠。
6.如权利要求5所述的柔性显示装置,其特征在于,所述像素区设有通孔,所述金属线通过所述通孔连接所述各相邻的像素区。
7.如权利要求5或6所述的柔性显示装置,其特征在于,所述TFT层与所述发光器件之间还设有第二有机物平坦化层,所述第二有机物平坦化层覆盖所述金属线。
8.如权利要求7所述的柔性显示装置,其特征在于,所述第一有机物平坦化层和第二有机物平坦化层的材质为聚酰亚胺。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司,未经昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510022265.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:使用纳米结构连接和粘接相邻层
- 下一篇:半导体集成电路制造的方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造