[发明专利]具有载盘冷却功能的镀膜系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜系统，特别是涉及一种具有载盘冷却功能的镀膜系统。

背景技术

目前真空镀膜技术的应用日渐广泛，举凡在可携式3C电子产品外壳上镀覆防电磁波干扰(Electro-magnetic interference,EMI)镀膜的3C产业，甚或是在透明镜片上镀覆有光学镀膜(optical film)的光学镜片产业等，皆需使用到真空溅镀设备；其中，又以连续式多腔体(multi-chamber)的镀膜系统因为拥有速度快、产量高、镀覆质量优良，及能大幅地降低生产成本等优点，因此已广泛地应用于大量镀膜的制程中。一般连续式多腔体的镀膜系统依序包含至少三个区域：一进料腔体区、一镀膜腔体区，及一出料腔体区；其中，一待镀物是被置于一传送单元上的一承载盘上，以于上述腔体区内或跨腔体区间传输，并由该出料腔体区输出一在该待镀物的一表面镀覆有一镀膜的成品。

参阅图1，中国台湾第M258101核准公告号实用新型专利案公开一种自动化潜入式内部回流装置1，是应用于一连续式多腔体镀膜系统14，其包含一前升降装置11、一后升降装置12，及一设置于该连续式多腔体镀膜系统14下的回传机构模块13。该前升降装置11与该后升降装置12分别设于该连续式多腔体镀膜系统14的一输入端141与一输出端142；其中，该前升降装置11、该连续式多腔体镀膜系统14、该后升降装置12，与该回传机构模块13共同定义出一封闭回路。

当一承载有一待镀物(图未示)的承载盘10于该连续式多腔体镀膜系统14内执行完一镀膜制程后，是自该连续式多腔体镀膜系统14的输出端142移至该后升降装置12上，并在该待镀物被移除后由该后升降装置12通过一压缸来带动该承载盘10向下位移，经由该回传机构模块13带动该承载盘10朝该前升降装置11移动，被定位于该前升降装置11上的该承载盘10上重新放置有一新的待镀物后，该前升降装置11则通过一压缸来使该承载盘10向上位移，使该承载盘10 重新导入该连续式多腔体镀膜系统14的输入端141。

然而，放置有该待镀物的承载盘10于该连续式多腔体镀膜系统14内执行该镀膜制程中，将因其内部的一电浆环境而累积大量的高温热能。因此，一旦该承载盘10反复地行经此封闭回路，并于该高温电浆环境中重复地累积大量的高温热能，则容易导致该承载盘10及其待镀物的温度过高，因而损坏镀膜质量。

经上述说明可知，改良镀膜系统的结构以解决镀膜系统中的散热问题，是此技术领域的相关技术人员所待突破的难题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具有载盘冷却功能的镀膜系统。

本发明的具有载盘冷却功能的镀膜系统，该具有载盘冷却功能的镀膜系统包含：一载盘、一镀膜站、一回流装置，及一冷却装置。该载盘包括一盘本体与一相变化物质，该盘本体内部形成有一填置该相变化物质的密闭空间。该镀膜站包括一入口端与一出口端，该载盘能自该入口端进入该镀膜站中以进行一镀膜制程，并由该出口端移出该镀膜站。该回流装置包括一设置在该镀膜站外的传送单元，该传送单元使该载盘沿一自该镀膜站的出口端朝该镀膜站的该入口端的传送路径移动。该冷却装置设置于该传送单元的该传送路径上。在本发明中，该相变化物质能自该盘本体吸收一在该镀膜制程中所累积的热能，以作为至少部分的该相变化物质自一固态熔融成一液态时所需的潜热(latent heat)，且该相变化物质的熔点为介于18℃至95℃间；该冷却装置能自该相变化物质吸收该热能，以令至少部分的该相变化物质自该液态凝固成该固态。

本发明的具有载盘冷却功能的镀膜系统，该相变化物质是选自一有机类材料与一无机类材料其中一者，该有机类材料是一烃类，且该烃类是选自C₁₆至C₅₀的一烷类。

本发明的具有载盘冷却功能的镀膜系统，该盘本体的密闭空间需大于或等于该相变化物质于该液态时所占有的体积。

本发明的具有载盘冷却功能的镀膜系统，该传送单元具有一支架及一安装于该支架的传送组件，该传送组件具有一对间隔设置的输送模块及一驱动所述输送模块的伺服马达，该传送单元利用该对输送模 块承托并移动该载盘，该冷却装置位于该对输送模块间。

本发明的具有载盘冷却功能的镀膜系统，该对输送模块为循环式输送带。