[发明专利]骨接合用植入物及其制造方法在审
| 申请号： | 201480083917.0 | 申请日： | 2014-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN106999284A | 公开（公告）日： | 2017-08-01 |
| 发明（设计）人： | 坂本宜瑞;谷口博文;玉井将人 | 申请（专利权）人： | 奥林巴斯株式会社 |
| 主分类号： | A61F2/28 | 分类号： | A61F2/28 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 接合 植入 及其 制造 方法 | ||
1.一种骨接合用植入物，
其具备：
由镁或镁合金构成的基材；和
形成于该基材的表面的多孔性的阳极氧化被膜，
该阳极氧化被膜由于在通过阳极氧化处理生成该阳极氧化被膜时所形成的气孔的尺寸和分布而在结构上具有在维持亲水性的同时防止水侵入所述气孔内的外表面。
2.如权利要求1所述的骨接合用植入物，其中，所述阳极氧化被膜的所述外表面具有与Wenzel模型相比Cassie-Baxter模型更占优势的表面结构。
3.如权利要求2所述的骨接合用植入物，其中，所述阳极氧化被膜的所述外表面的所述气孔的开口面积与开口以外的部分的面积的比率为1.81以下。
4.如权利要求3所述的骨接合用植入物，其中，所述阳极氧化被膜的所述外表面的所述气孔的开口面积与开口以外的部分的面积的比率为1以下。
5.如权利要求1～权利要求4中任一项所述的骨接合用植入物，其中，所述阳极氧化被膜的膜厚为1μm～5μm，并且开口于所述外表面的所述气孔的平均气孔径为5μm以下。
6.如权利要求5所述的骨接合用植入物，其中，所述阳极氧化被膜的膜厚为1μm～5μm，并且开口于所述外表面的所述气孔的平均气孔径为1μm以下。
7.如权利要求1～权利要求6中任一项所述的骨接合用植入物，其中，所述阳极氧化被膜的所述外表面的宏观表面粗糙度为1μm以下。
8.如权利要求1～权利要求7中任一项所述的骨接合用植入物，其是通过阳极氧化处理形成所述阳极氧化被膜而成的，所述阳极氧化处理中，将由镁或镁合金构成的所述基材浸渍到含有0.1mol/L以下的磷酸、含有0.2mol/L的氨或铵根离子、不含氟、氯且pH为9～13的电解液中进行通电。
9.一种骨接合用植入物的制造方法，该制造方法中实施下述阳极氧化处理：将由镁或镁合金构成的所述基材浸渍到含有0.1mol/L以下的磷酸、含有0.2mol/L的氨或铵根离子、不含氟、氯且pH为9～13的电解液中进行通电。
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