[发明专利]用于化学辅助图案化的光可界定的对准层

权利要求书

1.一种用于形成光可界定的对准层的方法，包括：

在包括转换组分的硬掩模之上设置化学增强抗蚀剂(CAR)材料；

利用极紫外线光刻工艺曝光所述CAR材料的部分以形成经曝光的抗蚀剂部分，其中，所述曝光在所述经曝光的抗蚀剂部分中产生与所述转换组分相互作用的酸，以在所述经曝光的抗蚀剂部分下方形成所述硬掩模的改性区域；

在曝光之后并且没有对所述化学增强抗蚀剂材料进行显影的情况下从所述硬掩模的顶表面去除所述CAR材料；

在所述硬掩模的所述顶表面之上设置嵌段共聚物，其中，所述嵌段共聚物分离成所述硬掩模的非改性区域之上的第一聚合物区域和所述硬掩模的所述改性区域之上的第二聚合物区域；

去除所述第二聚合物区域以暴露所述硬掩模的所述改性区域；以及

蚀刻穿过所述硬掩模的所述改性区域，其中，所述第一聚合物区域起掩模的作用以防止去除所述硬掩模的所述非改性区域。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述嵌段共聚物是聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸甲酯(PS-b-PMMA)。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述第一聚合物区域是PS，并且所述第二聚合物区域是PMMA。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，用极性非质子溶剂去除所述CAR材料。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述溶剂是丙酮、二甲基甲酰胺(DMF)或二甲基亚砜(DMSO)。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，使用两种或更多种不同的溶剂来去除所述CAR材料。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述硬掩模的所述改性区域是碱溶性的，并且所述硬掩模的其余部分是碱不溶性的。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述硬掩模的所述改性区域包括RCO-OH组分，并且所述硬掩模的其余部分包括RCO-OR组分。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述转换组分是限制在所述硬掩模内的聚合物。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述转换组分混合在所述材料内。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，将所述转换组分分离到所述硬掩模的顶表面。

12.一种使用权利要求1所述的方法形成的材料叠置体，包括：

衬底层；

所述硬掩模，所述硬掩模形成在所述衬底层之上，其中，所述硬掩模包括多个图案化穿孔，并且其中，所述硬掩模还包括所述转换组分。

13.根据权利要求12所述的材料叠置体，其中，当所述转换组分与酸相互作用时，所述转换组分将所述硬掩模从碱不溶性材料转化为碱溶性的。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，所述转换组分被分离到所述硬掩模的顶表面。