[发明专利]形成具有非对称外形的鳍状物结构的装置和方法

说明书

实施例包括微电子器件，其包括：衬底，其包括凸起部分和非凸起部分，其中，电介质材料设置为与所述凸起部分相邻；外延子鳍状物结构，其设置在所述凸起部分上，其中，所述外延子鳍状物结构的底部部分包括非对称外形；以及设置在所述子鳍状物结构上的外延鳍状物器件结构。本文中描述了其它实施例。

技术领域

本发明涉及形成具有非对称外形的鳍状物结构的装置和方法。

背景技术

例如，将诸如磷化铝铟等外延材料集成到诸如硅衬底等衬底上在微电子器件应用中是非常期望的。高质量外延材料增强了诸如片上系统(SoC)、高电压和射频器件以及互补金属氧化物硅(CMOS)应用等应用的性能。该集成涉及可能由于两种材料之间的晶格性质失配而引起的制造挑战。

发明内容

根据本发明的一个方面，提供了一种微电子器件结构，包括：衬底，其包括凸起部分和非凸起部分，其中，电介质材料设置为与所述凸起部分横向邻接，并且其中，所述凸起部分的顶表面包括所述凸起部分的材料的单侧(111)刻面；子鳍状物结构，其设置在所述凸起部分的所述顶表面上，其中，所述子鳍状物结构的底部部分包括非对称外形；鳍状物器件结构，其设置在所述子鳍状物结构上；栅极氧化物，其设置在所述鳍状物器件结构的一部分上；以及栅极材料，其设置在所述栅极氧化物上。

根据本发明的另一方面，提供了一种电子系统，包括：板；附接到所述板的微电子器件，其中，所述微电子器件包括至少一个晶体管，所述至少一个晶体管包括：衬底，其包括凸起部分和非凸起部分，其中，电介质材料设置为与所述凸起部分横向邻接；外延子鳍状物结构，其设置在所述凸起部分上，其中，所述外延子鳍状物结构的底部部分包括非对称外形；以及外延鳍状物器件结构，其设置在所述子鳍状物结构上。

根据本发明的另一方面，提供了一种形成微电子器件的方法，包括：提供衬底，所述衬底包括凸起部分和非凸起部分，其中，电介质材料设置为与所述凸起部分横向邻接；提供设置在所述凸起部分上的外延子鳍状物结构，其中，所述外延子鳍状物结构的底部部分包括非对称外形；提供设置在所述子鳍状物结构上的外延鳍状物器件结构；在所述鳍状物器件结构上形成栅极氧化物；以及形成设置在所述栅极氧化物上的栅极材料。

附图说明

尽管说明书以特定地指出并清晰地要求保护某些实施例作为结束，但在结合附图阅读时，从对实施例的以下描述中可以更容易确定这些实施例的优点，在附图中：

图la-1i表示根据各个实施例的结构的截面图。

图2a-2c表示根据实施例的结构的截面图。

图3表示根据实施例的方法的流程图。

图4是实现一个或多个实施例的内插件。

图5是根据实施例构建的计算设备。

具体实施方式

在以下详细描述中，参照附图，其通过例示的方式显示了其中可以实践所述方法和结构的具体实施例。对这些实施例进行足够详细的描述，以使本领域技术人员能够实践实施例。要理解，各个实施例(尽管不同)不一定是相互排斥的。例如，本文结合一个实施例所述的特定特征、结构或特性可以在其它实施例内被实施，而不脱离实施例的精神和范围。另外，要理解的是，可以修改每个所公开的实施例内的个体要素的位置或布置而不脱离实施例的精神和范围。在图中，贯穿若干视图，类似的附图标记可以指代相同或相似的功能。

将以最有助于理解本文中的实施例的方式依次将各个操作描述为多个分立操作，然而，不应将描述的次序解释为暗示这些操作必然依赖于次序。特别地，这些操作不需要按照所呈现的次序执行。