[发明专利]用于光记录介质的记录层和光记录介质

说明书

一种光记录介质，所述光记录介质包括透射型记录层，所述透射型记录层包含金属M_A的氧化物、金属M_B的氧化物和金属M_C的氧化物。金属M_A是从由Mn和Ni构成的组中选择出的至少一种。金属M_B是从由W和Mo构成的组中选择出的至少一种。金属M_C是Zr。金属M_A与金属M_B的原子比(M_A/M_B)不小于0.37且不大于1.31。所述透射型记录层中的金属M_C的含量不小于0.9原子％且不大于27.5原子％。

技术领域

本技术涉及用于光记录介质的记录层以及光记录介质。具体来讲，本技术涉及包含金属氧化物的用于光记录介质的记录层、以及具有所述记录层的光记录介质。

背景技术

近年来，在光记录介质中，为了进一步增加记录容量，广泛地采用通过层叠多个层来形成记录层的技术。在多层光记录介质中，为了使足够量的光到达位于距介质表面最内侧的记录层，采用能够透射用于记录和再现的激光的记录层(根据需要，下文中称为“透射型记录层”)，来作为位于所述最内侧记录层的上侧处的记录层。

作为透射型记录层的材料，提出了如下材料：所述材料包含从由钨(W)和钼(Mo)构成的组中选择出的至少一种金属的氧化物的材料、以及从由铜(Cu)、锰(Mn)、镍(Ni)和银(Ag)构成的组中选择出的至少一种金属的氧化物(例如，参见专利文献1)。

引文列表

专利文献

专利文献1：JP 2013-86336A

发明内容

发明所要解决的技术问题

近年来，作为透射型记录层的材料，需要一种能够实现高透射率、高记录灵敏度和高S/N(高调制度)的材料。

因此，本技术的目的是提供一种能够实现高透射率、高记录灵敏度和高S/N(高调制度)的用于光记录介质的记录层、以及具有所述记录层的光记录介质。

解决技术问题的手段

为了解决上述问题，第一种技术提供了一种光记录介质，所述光记录介质包括透射型记录层，所述透射型记录层包含金属M_A的氧化物、金属M_B的氧化物和金属M_C的氧化物。金属M_A是从由Mn和Ni构成的组中选择出的至少一种金属。金属M_B是从由W和Mo构成的组中选择出的至少一种金属。金属M_C是Zr。金属M_A与金属M_B的原子比(M_A/M_B)不小于0.37且不大于1.31。所述透射型记录层中的金属M_C的含量不小于0.9原子％且不大于27.5原子％。

第一种技术提供了一种用于光记录介质的记录层，包含：金属M_A的氧化物；金属M_B的氧化物；和金属M_C的氧化物。金属M_A是从由Mn和Ni构成的组中选择出的至少一种金属。金属M_B是从由W和Mo构成的组中选择出的至少一种金属。金属M_C是Zr。金属M_A与金属M_B的原子比(M_A/M_B)不小于0.37且不大于1.31。所述记录层中的金属M_C的含量不小于0.9原子％且不大于27.5原子％。

本发明的有益效果

如上所述，根据本技术，实现了高透射率、高记录灵敏度和高S/N(高调制度)。

附图说明