[发明专利]高分子压电材料及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201480062426.8 申请日: 2014-11-10
公开(公告)号: CN105723534A 公开(公告)日: 2016-06-29
发明(设计)人: 谷本一洋;吉田光伸;西川茂雄 申请(专利权)人: 三井化学株式会社
主分类号: H01L41/193 分类号: H01L41/193;C08G63/06;H01L41/33;H01L41/45
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;焦成美
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高分子 压电 材料 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种高分子压电材料,其包含重均分子量为5万~100万、 利用下式算出的光学纯度高于97.0%ee且低于99.8%ee的螺旋手性 高分子(A),

所述高分子压电材料于25℃利用应力-电荷法测得的压电常数 d14为1pC/N以上,

式:光学纯度(%ee)=100×|L体量-D体量|/(L体量+D 体量)

其中,L体的量〔质量%〕和光学活性高分子的D体的量〔质量%〕 是通过利用了高效液相色谱法(HPLC)的方法而得到的值。

2.如权利要求1所述的高分子压电材料,其中,所述光学纯度 为98.0%ee以上99.6%ee以下。

3.如权利要求1或2所述的高分子压电材料,其中,所述光学 纯度高于98.5%ee且低于99.6%ee。

4.如权利要求1或2所述的高分子压电材料,其中,相对于可 见光线的内部雾度为40%以下,

利用DSC法得到的结晶度为20%~80%,

用微波透射型分子取向计测定的将基准厚度设定为50μm时的 标准化分子取向MORc与所述结晶度之积为40~700。

5.如权利要求1或2所述的高分子压电材料,其中,相对于可 见光线的内部雾度为0.05%~5%,

用微波透射型分子取向计测定的将基准厚度设定为50μm时的 标准化分子取向MORc为2.0~10.0。

6.如权利要求1或2所述的高分子压电材料,其中,所述螺旋 手性高分子(A)为聚乳酸类高分子,所述聚乳酸类高分子具有包含 下式(1)表示的重复单元的主链,

7.如权利要求1或2所述的高分子压电材料,其中,所述螺旋 手性高分子(A)的含量为80质量%以上。

8.一种高分子压电材料的制造方法,其是制造权利要求1或2 所述的高分子压电材料的方法,包括以下工序:

第一工序,加热包含所述螺旋手性高分子(A)的非晶状态的膜 而得到预结晶化膜,和

第二工序,主要沿单轴方向拉伸所述预结晶化膜。

9.如权利要求8所述的高分子压电材料的制造方法,其中,所 述第一工序中,于满足下式(2)的温度T,加热所述非晶状态的膜, 直到结晶度成为3%~70%,得到预结晶化膜,

式(2):Tg-40℃≤T≤Tg+40℃

式(2)中,Tg表示所述螺旋手性高分子(A)的玻璃化温度(℃)。

10.如权利要求8所述的高分子压电材料的制造方法,其中, 所述第一工序中,将包含聚乳酸作为所述螺旋手性高分子(A)的非 晶状态的膜于60℃~170℃加热5秒~60分钟,得到预结晶化膜。

11.如权利要求8所述的高分子压电材料的制造方法,其中, 在所述第二工序之后,包括进行退火处理的退火处理工序。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三井化学株式会社,未经三井化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480062426.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top