[发明专利]用于基于网的处理的无掩模平版印刷有效

专利信息
申请号: 201480058382.1 申请日: 2014-09-25
公开(公告)号: CN105659166B 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 克里斯多佛·本彻 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/24
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 基于 处理 无掩模 平版印刷
【说明书】:

本公开案总体涉及一种用于处理基于网的基板的方法和设备。当所述基板在辊之间行进时,所述基板可被拉伸并且因而扭曲。一旦所述基板到达所述辊处,所述基板扭曲就会固定。通过调整处理参数,所扭曲的基板得以处理,而不需要校正所述扭曲。

背景

领域

本公开案的实施方式涉及一种用于处理基于网的基板(web-based substrate)的方法和设备。

相关技术描述

在基于网的基板处理中,基板移动过辊,并且在一或多个处理位置处进行处理。与静态处理相反,基于网的基板可以在基板连续移动通过系统时进行处理。因此,基板位置不断改变,这种情况在基于网的基板处理中尤为明显。基于网的基板行进过辊。当在该辊上时,基板位置一般是固定的。然而,在辊与辊之间,基板会被拉伸或垂直/侧向于基板所行进的路径移动。换句话说,基板可能游移(wander),使得当基板遇到该辊时,就基于网的基板的整个长度而言,基板并非在辊上的相同位置。

除了游移之外,基板会被扭曲,使得基板相对于基板移动方向侧向地“挤成一团(bunch up)”或压缩。当所扭曲的基板到达辊处时,扭曲一般固定,使得这种扭曲不会由于该基板的部分与辊接触发生改变。然而,处理所扭曲的基板可能导致许多问题,因为扭曲可能在基板移动通过系统时沿基板的长度发生改变。因此,基板必须将不扭曲,或者处理条件必须改变以便补偿扭曲。

一种解决基板扭曲问题的方法是使用自对准压印平版印刷技术(Self AlignedImprint Lithography,SAIL)。SAIL仅仅将多个平版印刷(lithography)步骤间的对准问题转移至多个蚀刻步骤,并且目前是商业上不可行的。SAIL处理需要大量资金投入以及非常严苛的系统布局和设计规则。

因此,在本领域需要一种以不同于SAIL的方式来处理基于网的基板的方法。

概述

本公开案总体涉及一种用于处理基于网的基板的方法和设备。当所述基板在辊之间行进时,所述基板可被拉伸并且因而扭曲。一旦所述基板到达所述辊处,所述基板扭曲就会固定。通过调整处理参数,所扭曲的基板得以处理,而不需要校正所述扭曲。

在一个实施方式中,一种对基于网的基板进行处理的方法包括:检测所述基板是扭曲的;以及基于所述检测到的扭曲来对所扭曲的基板进行光刻处理。

在另一实施方式中,一种基于网的处理设备包括:辊,所述辊设置在腔室主体中;对准测量装置;CPU,所述CPU耦接所述对准测量装置;处理装置,所述处理装置被耦接到所述CPU;以及图像整形器(image shaper),所述图形整形器设置在所述处理装置与所述辊之间,其中所述图像整形器能够形成凸出且柱形的场形,以便匹配所述辊的形状。

附图简述

因此,为了能够详细理解本公开案的上述特征结构所用方式,上文所简要概述的本公开案的更具体的描述可以参考实施方式进行,其中一些实施方式示出在附图中。然而,应当注意,附图仅仅示出本公开案的典型实施方式,并且因此不应视为限制本公开案范围,因为本公开案可以允许其他等效实施方式。

图1是通过辊的基于网的基板的示意图。

图2A至图2C是基于网的基板的示意图,其中示出扭曲。

图3是具有对准标记的基于网的基板的示意图。

图4是根据一个实施方式的设备的示意图。

图5是根据一个实施方式的结合图像整形器的设备的示意图。

为了促进理解,已尽可能使用相同元件符号标示这些附图所共有的相同元件。预期的是,一个实施方式中公开的元件可有益地用于其他实施方式,而不需要具体叙述。

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