[发明专利]一种保护片、保护片的制作方法及电子设备

权利要求书

1.一种保护片，用于保护电子设备的相机模组并透射光线，所述保护片包括基底、第一粘结层、第一透明膜及第一减反射膜，所述第一粘结层粘结于所述基底与第一透明膜之间，所述第一减反射膜形成于第一透明膜远离第一粘结层一侧的表面，其中，所述第一减反射膜采用湿法涂覆的方式形成于第一透明膜的所述表面，所述第一透明膜通过裁切的方式形成有与所述基底对应的形状并通过粘贴的方式将所述减反射膜贴合至所述基底表面；所述基底、第一粘结层、第一透明膜及第一减反射膜均采用透光材料制成，所述第一减反射膜用于减少光线透射所述保护片时产生反射光。

2.如权利要求1所述的保护片，其特征在于，所述第一减反射膜为单层膜，所述第一减反射膜为氟化镁单层膜、多孔二氧化硅薄膜或者蛾眼膜。

3.如权利要求1所述的保护片，其特征在于，所述第一减反射膜由多层膜组成，所述第一减反射膜为二氧化硅膜与氮化硅膜组成的多层膜、二氧化硅膜与三氧化二铝膜组成的多层膜、二氧化硅膜与五氧化二铌膜组成的多层膜、二氧化硅膜与二氧化钛膜组成的多层膜、二氧化铈膜与三氧化二铝膜组成的多层膜或二氧化铈膜与二氧化硅膜组成的多层膜。

4.如权利要求1所述的保护片，其特征在于，所述第一减反射膜的材料为氧化锌、氧化锆、氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、氧化铈、氧化铬、氧化铪、氧化铝、一氧化硅、二氧化硅或氟化镁。

5.如权利要求1所述的保护片，其特征在于，所述基底包括相对的内表面和外表面，所述第一粘结层、第一透明膜及第一减反射膜形成于所述基底的内表面一侧。

6.如权利要求5所述的保护片，其特征在于，所述保护片还包括防指纹膜，所述防指纹膜形成于所述基底的外表面。

7.如权利要求5所述的保护片，其特征在于，所述保护片还包括第二粘结层、第二透明膜及第二减反射膜，所述第二粘结层粘结于所述基底的外表面与第二透明膜之间，所述第二减反射膜形成于第二透明膜远离第二粘结层一侧的表面，所述第二粘结层、第二透明膜及第二减反射膜均采用透光材料制成。

8.如权利要求7所述的保护片，其特征在于，所述保护片还包括防指纹膜，所述防指纹膜形成于所述第二减反射膜远离第二透明膜的表面。

9.如权利要求1所述的保护片，其特征在于，所述第一透明膜采用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯或三醋酸纤维素制成，所述第一粘结层采用光学胶、压敏胶或者硅胶制成。

10.一种保护片的制作方法，用于制作如权利要求1所述的保护片，包括步骤：

提供透明膜及基底；

采用湿法涂覆的方式在透明膜的一侧表面形成减射反膜；

裁切形成有减反射膜的透明膜，使得所述透明膜形状与所述基底相对应；以及

采用粘结层将裁切后的形成有所述减反射膜的透明膜及减反射膜通过粘贴的方式贴合于所述基底至少一侧表面。

11.如权利要求10所述的保护片的制作方法，其特征在于，所述减反射膜为多孔二氧化硅膜，形成所述减反射膜包括步骤:

配制二氧化硅溶胶-凝胶；

将所述二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜的一侧表面；以及

将所述透明膜表面的二氧化硅溶胶-凝胶烘干形成减射反膜。

12.如权利要求11所述的保护片的制作方法，其特征在于，将所述二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜表面采用甩胶法、浸镀、喷雾涂层、流动涂镀、自旋涂镀、毛细管涂镀或滚动/照相凹版涂镀方法。

13.如权利要求10所述的保护片的制作方法，其特征在于，所述减反射膜为具有蛾眼结构，形成所述减反射膜包括步骤:

在透明膜的表面涂覆的光刻胶形成光刻胶层；

采用压印模板对光刻胶层进行压印，从而在所述光刻胶层的表面一侧形成蛾眼结构；以及

固化形成有蛾眼结构的光刻胶层，形成减反射膜。

14.如权利要求10所述的保护片的制作方法，其特征在于，所述减反射膜为多层膜，形成所述减反射膜包括依次在所述透明膜的表面形成多层膜，所述多层膜共同构成减反射膜。

15.一种电子设备，其包括电子设备主体、壳体及如权利要求1至9任一项所述的保护片，所述设备主体设置于所述壳体内，所述设备主体包括相机模组，所述壳体与相机模组相对的位置形成有窗口，所述保护片设置于所述窗口内，所述保护片用于保护所述相机模组并透射光线。