[发明专利]清洗设备及方法

权利要求书

1.一种使用多个固体颗粒材料清洗至少一脏污基材的清洗设备，其特 征在于，该设备包括：

一外部壳体，限定该设备的外部周界，该外部壳体限定至少一上内部空 间和一下内部空间；

一穿孔滚筒，设置于该上内部空间并被配置为绕一水平轴旋转，用于在 清洗程序期间搅动该至少一脏污基材；

一分隔件，将该上内部空间和该下内部空间密封隔开，该分隔件包括被 配置为收集和留存在清洗程序期间从该滚筒释放的洗涤液和所述多个固体 颗粒中的固体颗粒的一收集区；

一再循环装置，被配置为将所述多个固体颗粒中的颗粒从该收集区传送 至该滚筒；

其中，

实质上平行于该滚筒的旋转轴的该外部壳体的壁的内表面并列于该滚 筒，该滚筒靠近该内表面与一作为该滚筒的水平平分面的平面的交点；

该收集区具有用于该洗涤液和固体颗粒的最大填充位，且

定位该滚筒和该收集区以使该滚筒的任何部分均不存在于该收集区的 任何部分中，该收集区位于该最大填充位或该最大填充位下方。

2.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，该滚筒和该收集区被 设置并配置，以使该滚筒的最下部通过一间隙或间隔与该最大填充位间隔设 置。

3.如权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，该间隙或间隔不小于1 mm。

4.如权利要求1、2或3所述的清洗设备，其特征在于，该滚筒的任何 部分均不存在于该收集区。

5.如权利要求1-4任意一项所述的清洗设备，其特征在于，该收集区 被设定形状和尺寸，以使其可拦截从该滚筒排出并自该上内部空间的任何部 分向下流动或掉落的洗涤液和/或固体颗粒。

6.如权利要求1-5任意一项所述的清洗设备，其特征在于，该收集区 包括具有一个或多个倾斜表面的集水槽，该集水槽被配置为将在清洗程序期 间从该滚筒释放的固体颗粒引导至该集水槽的最下部。

7.如权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，该集水槽设置于该滚 筒的正下方。

8.如权利要求6或7所述的清洗设备，其特征在于，该一个或多个倾 斜表面通过该滚筒的一个或多个倾斜壁限定。

9.如权利要求8的所述的清洗设备，其特征在于，该倾斜壁具有与该 壳体的毗邻侧壁成对立关系设置的外边界边缘，每一外边界边缘和毗邻侧壁 之间设有一密封件。

10.如权利要求6-9任意一项所述的清洗设备，其特征在于，该集水槽 包括用于接纳所述多个固体颗粒及该洗涤液的口部，该口部具有长度尺寸及 宽度尺寸，其中该长度尺寸等于或大于该滚筒的长度，其中该宽度尺寸等于 或大于该滚筒的直径。

11.如权利要求9或10所述的清洗设备，其特征在于，该口部由该倾 斜壁的外边界边缘限定。

12.如权利要求10或11所述的清洗设备，其特征在于，当俯视时，该 滚筒的边缘不大于收集部分的口部。

13.如权利要求6-12任意一项所述的清洗设备，其特征在于，由集水 槽的前壁、后壁、第一侧壁、第二侧壁的各自的上部边界边缘部分限定的集 水槽的开口适合地延伸至外部壳体或机柜的内部表面或壁，特别地，其中该 些各自的上部边界边缘部分与外部壳体的该些内部表面或壁之间实质上不 存在水平或实质上水平的表面。尤其，当俯视时，适合地实质上不存在直接 或垂直位于滚筒下方的这些水平或实质上水平的表面。

14.如权利要求1-13任意一项所述的清洗设备，其特征在于，该清洗 设备还包括具有打开状态及关闭状态的门，处于其打开状态的该门提供通向 该滚筒的入口用于基材的插入及去除，且在该门处于其关闭状态的情况下， 洗涤液能仅经由收集区自上内部空间排出。