[发明专利]工艺片在审
| 申请号: | 201480055283.8 | 申请日: | 2014-10-07 |
| 公开(公告)号: | CN105612052A | 公开(公告)日: | 2016-05-25 |
| 发明(设计)人: | 宫本皓史;高桥亮 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
| 主分类号: | B32B27/00 | 分类号: | B32B27/00;B32B27/20;C08J7/04;C08K3/36;C08K5/3477;C08L63/00;C08L67/00;C08L101/06 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王利波 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 工艺 | ||
1.一种工艺片,其具有基材及含有粒子的脱模层,其中,
所述含有粒子的脱模层具有树脂层(A)和粒子(B),所述树脂层(A)由包含 具有羟基的热固性树脂和交联剂的成分形成,所述粒子(B)至少在表面含有 三聚氰胺类化合物。
2.根据权利要求1所述的工艺片,其中,粒子(B)为含有三聚氰胺类化 合物及二氧化硅的复合粒子。
3.根据权利要求1或2所述的工艺片,其中,所述含有粒子的脱模层 中粒子(B)的含有率为6~45质量%。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的工艺片,其中,具有羟基的热固 性树脂为选自双酚A型环氧树脂酯和醇酸类树脂中的一种以上树脂。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的工艺片,其中,交联剂为三聚氰 胺类化合物。
6.根据权利要求5所述的工艺片,其中,所述交联剂的三聚氰胺类化 合物为六甲氧基甲基三聚氰胺或其聚合物。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的工艺片,其中,所述含有粒子的 脱模层的算数平均表面粗糙度(Ra)为0.25~1.50μm。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的工艺片,其中,所述含有粒子的 脱模层的轮廓最大峰高(Rp)为1.50~8.00μm。
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