[发明专利]X射线衍射装置和X射线衍射测定方法

说明书

不使用后级受光狭缝就能够变更测定分辨率，并且对于在使用后级受光狭缝的情况下无法实现的测定分辨率的变更也能够灵活地应对。本发明的X射线衍射装置对试样台(7)上的试样(S)照射由X射线源产生的X射线，利用检测器(15)来检测在该试样(S)处衍射后的X射线，具备虚拟掩模设定部(26)和信号处理部(21)。检测器(15)按形成检测面(17)的多个检测元件(16)的每个检测元件(16)，输出与由检测元件(16)接收到的X射线的强度相应的检测信号。虚拟掩模设定部(26)对检测器(15)的检测面(17)设定虚拟掩模(31)，并且至少能够设定虚拟掩模的开口尺寸来作为虚拟掩模(31)的开口条件，其中，该虚拟掩模的开口尺寸是在X方向和Y方向上独立地设定的。信号处理部(21)根据由虚拟掩模设定部(26)设定的虚拟掩模的开口条件对从检测器(15)输出的检测信号进行处理。

技术领域

本发明涉及一种对试样照射X射线并检测在该试样处衍射的X射线的X射线衍射装置和X射线衍射测定方法。

背景技术

作为对试样的结晶度、晶体结构等进行分析的装置之一，已知X射线衍射装置。X射线衍射装置对试样照射由X射线源产生的X射线，将由此产生的衍射X射线利用检测器进行检测来测定其强度。

图27是表示以往的X射线衍射装置的测定光学系统的结构例的示意图。

在图27中，在由X射线源1产生的X射线的放射方向上，配置有抛物面多层膜镜2、选择狭缝3、入射梭拉狭缝4、长度限制狭缝5以及入射狭缝6。这些结构要素构成对放置于试样台7的试样S入射X射线的入射光学系统。抛物面多层膜镜2是根据需要而设置于入射光学系统的。

另一方面，在对试样台7的试样S入射了X射线时产生的衍射X射线的出射方向上，配置有前级受光狭缝8、Kβ滤波器9、平板狭缝分析仪10a、受光梭拉狭缝10b、后级受光狭缝11、衰减器(attenuator)12以及检测器13。这些结构要素构成使检测器13接收从试样台7上的试样S出射的衍射X射线的受光光学系统。平板狭缝分析仪10a是根据需要而设置于受光光学系统的。

能够通过未图示的测角仪(Goniometer)对上述的入射光学系统、试样台7以及受光光学系统的相对位置关系进行变更。测角仪使入射光学系统和受光光学系统以向放置于试样台7的试样S的表面入射的X射线的入射位置为旋转中心分别各旋转规定角度，由此变更它们的相对位置关系。

测角仪使入射光学系统和受光光学系统以共同的旋转轴为中心进行旋转。在该情况下，当入射光学系统向一个方向旋转时，受光光学系统向与该一个方向相反的方向旋转相同角度。此时，一般来说，入射光学系统与受光光学系统在旋转方向上的相对位置被控制成向试样表面入射的X射线的入射角度与在试样表面衍射后的X射线的衍射角度之间的关系满足θ和2θ的关系。

在具备包括上述结构的测定光学系统的X射线衍射装置中，一边通过测角仪的驱动使入射光学系统和受光光学系统同步旋转，一边在预先决定的扫描角度范围内进行如下的测定。即，从X射线源1向试样台7出射的X射线经过抛物面多层膜镜2和选择狭缝3后被取入到入射梭拉狭缝4。通过了入射梭拉狭缝4的X射线经过长度限制狭缝5和入射狭缝6被照射到试样台7上的试样S的表面。

另一方面，通过X射线的照射而从试样S的表面出射的衍射X射线经过前级受光狭缝8和Kβ滤波器9后被取入到平板狭缝分析仪10a和受光梭拉狭缝10b。通过了受光梭拉狭缝10b的衍射X射线经过后级受光狭缝11和衰减器12后到达检测器13，在此处检测入射X射线的强度。