[发明专利]X射线衍射装置和X射线衍射测定方法

权利要求书

1.一种X射线衍射装置，对放置于试样台的试样照射由X射线源产生的X射线，利用检测器来检测在该试样处衍射后的X射线，该X射线衍射装置的特征在于，

所述检测器具有由在互成直角的第一方向和第二方向上排列成2维状的多个检测元件形成的检测面，按形成所述检测面的所述多个检测元件中的每个检测元件，输出与该检测元件所接收到的X射线的强度相应的检测信号，

所述X射线衍射装置具备：

虚拟掩模设定部，其对所述检测器的所述检测面设定具有开口部和遮蔽部的虚拟掩模，并且至少能够设定所述虚拟掩模的开口尺寸来作为所述虚拟掩模的开口条件，其中，所述虚拟掩模的开口尺寸是在所述第一方向和所述第二方向上独立地设定的；以及

信号处理部，其使从对所述检测器的所述检测面设定的所述虚拟掩模的所述开口部内的所述检测元件输出的所述检测信号通过，阻断从所述遮蔽部内的所述检测元件输出的所述检测信号的通过，由此仅将从形成所述检测面的所述多个检测元件中的存在于所述虚拟掩模的所述开口部内的检测元件输出的所述检测信号作为对象来进行信号处理，

其中，所述虚拟掩模设定部能够在监视器上显示用于指定所述虚拟掩模的开口条件的虚拟掩模设定画面，在该虚拟掩模设定画面中能够指定所述第一方向上的开口尺寸和所述第二方向上的开口尺寸。

2.根据权利要求1所述的X射线衍射装置，其特征在于，

所述虚拟掩模设定部除了能够设定所述虚拟掩模的开口尺寸以外，还能够设定所述虚拟掩模的开口中心位置，来作为所述虚拟掩模的开口条件。

3.根据权利要求1或2所述的X射线衍射装置，其特征在于，

所述虚拟掩模设定部除了能够设定所述虚拟掩模的开口尺寸以外，还能够设定所述虚拟掩模的开口个数，来作为所述虚拟掩模的开口条件。

4.根据权利要求1所述的X射线衍射装置，其特征在于，

所述虚拟掩模设定部除了能够设定所述虚拟掩模的开口尺寸以外，还能够设定所述虚拟掩模的开口形状，来作为所述虚拟掩模的开口条件。

5.根据权利要求1所述的X射线衍射装置，其特征在于，

所述虚拟掩模设定部除了能够设定所述虚拟掩模的开口尺寸以外，还能够设定所述虚拟掩模的开口的倾斜角度，来作为所述虚拟掩模的开口条件。

6.根据权利要求1所述的X射线衍射装置，其特征在于，

还具备维数模式设定部，该维数模式设定部设定在使用所述检测器来进行X射线衍射的测定时应用的维数模式，

所述信号处理部根据由所述维数模式设定部设定的所述维数模式对从所述检测器输出的所述检测信号进行处理。

7.一种X射线衍射测定方法，对放置于试样台的试样照射由X射线源产生的X射线，利用检测器来检测在该试样处衍射后的X射线，并且，作为所述检测器，使用如下的检测器：该检测器具有由在互成直角的第一方向和第二方向上排列成2维状的多个检测元件形成的检测面，按形成所述检测面的所述多个检测元件中的每个检测元件，输出与该检测元件所接收到的X射线的强度相应的检测信号，该X射线衍射测定方法的特征在于，包括以下步骤：

虚拟掩模设定步骤，对所述检测器的所述检测面设定具有开口部和遮蔽部的虚拟掩模，并且至少设定所述虚拟掩模的开口尺寸来作为所述虚拟掩模的开口条件，其中，所述虚拟掩模的开口尺寸是在所述第一方向和所述第二方向上独立地设定的；

X射线检测步骤，对放置于所述试样台的试样照射由所述X射线源产生的X射线，利用所述检测器来检测在该试样处衍射后的X射线；以及

信号处理步骤，使从对所述检测器的所述检测面设定的所述虚拟掩模的所述开口部内的所述检测元件输出的所述检测信号通过，阻断从所述遮蔽部内的所述检测元件输出的所述检测信号的通过，由此仅将在所述X射线检测步骤中从形成所述检测面的所述多个检测元件中的存在于所述虚拟掩模的所述开口部内的检测元件输出的所述检测信号作为对象来进行信号处理，

其中，在所述虚拟掩模设定步骤中，能够在监视器上显示用于指定所述虚拟掩模的开口条件的虚拟掩模设定画面，在该虚拟掩模设定画面中能够指定所述第一方向上的开口尺寸和所述第二方向上的开口尺寸。