[发明专利]涡旋型流体设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种涡旋型流体设备，特别是涉及一种动涡盘的自转阻止机构。

背景技术

涡旋型流体设备包括涡盘单元及自转阻止机构，其中，上述涡盘单元具有在底板上竖立设置有涡旋状的环绕件(日文：ラップ)的定涡盘及动涡盘，上述定涡盘及动涡盘彼此相对并啮合，在这两个涡盘的环绕件间形成密闭空间，上述自转阻止机构阻止动涡盘的自转，在上述涡旋型流体设备中，利用自转阻止机构对动涡盘的自转进行阻止，并且使动涡盘绕定涡盘的轴心进行公转回旋运动，从而改变密闭空间的容积，以将流体压缩或使流体膨胀。

作为这种涡旋型流体设备的自转阻止机构，已知有例如在专利文献1中记载的机构。详细而言，上述自转阻止机构构成为沿动涡盘的周向配置有多个自转阻止部，上述自转阻止部由在动涡盘侧及外壳侧相对地突出设置的各销以及与两个销卡合的环构成。在上述结构中，当动涡盘绕定涡盘的轴心回旋时，自转阻止部的靠动涡盘一侧的销在靠外壳一侧的销的周围处受到环限制，同时进行回旋，从而阻止动涡盘的自转。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-208715号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

但是，在例如涡旋型压缩机中，随着压缩而产生的压缩反作用力，会在动涡盘上产生自转力矩，由该自转力矩产生的载荷会作用于自转阻止部，当载荷集中到一个自转阻止部时，会发生使销破损这样的问题。因而，在专利文献1记载的自转阻止机构中，示出了当自转力矩最大时载荷不会集中到一个自转阻止部这样的多个自转阻止部的配置结构。

但是，在专利文献1中并未示出如下情况，即，为了实现涡旋型流体设备的小型化(压缩机的主体直径缩小)，而使涡旋状的环绕件中心相对于动涡盘的底板中心偏心的情况。在涡旋状的环绕件中心相对于动涡盘的底板中心偏心的情况下，在动涡盘回旋一圈的过程中，从动涡盘的底板中心到作用于动涡盘的压缩反作用力的中心间的距离发生变化，即使压缩反作用力恒定，根据动涡盘的回旋位置不同，所产生的自转力矩也会发生变动。因此，在为了实现小型化而使涡旋状的环绕件中心相对于动涡盘的底板中心偏心的涡旋型流体设备中，也在考虑了因动涡盘的回旋位置引起的自转力矩的变动后，来确定自转阻止部的配置，这对于降低作用在自转阻止部上的载荷来提高自转阻止机构的耐久性是重要的。

本发明着眼于上述问题而作，其目的在于提供一种能够实现涡旋型流体设备的小型化以及自转阻止机构的耐久性提高的涡旋型流体设备。

解决技术问题所采用的技术方案

因而，本发明的涡旋型流体设备包括：涡盘单元，上述涡盘单元使定涡盘及动涡盘以各自的环绕件相对的方式啮合而形成密闭空间，其中，上述定涡盘及动涡盘在底板上竖立设置有涡旋状的环绕件，并且上述底板的中心与上述环绕件的涡旋中心彼此偏心；以及自转阻止机构，上述自转阻止机构沿上述动涡盘的周向至少配置有三个以上的自转阻止部来阻止上述动涡盘的自转，上述自转阻止部由圆形孔和销构成，其中，所述圆形孔形成在上述动涡盘的底板的背面和与上述背面相对的外壳壁中的任一方上，上述销与上述圆形孔卡合并突出设置在上述动涡盘的底板的背面和与上述背面相对的外壳壁中的另一方上，上述涡旋型流体设备利用上述自转阻止机构阻止上述动涡盘的自转，并且使上述动涡盘绕上述定涡盘的轴心进行公转回旋运动，从而使上述密闭空间的容积变化，其特征是，上述自转阻止机构形成为：将上述自转阻止部中的至少一个配置成使上述圆形孔的中心位于与将上述动涡盘的底板中心和上述环绕件的涡旋中心连接的直线正交且穿过上述底板中心的直线上。

发明效果

根据本发明的涡旋型流体设备，将三个以上的销及孔方式的自转阻止部中的至少一个设置成使圆形孔的中心位于与将动涡盘底板中心和环绕件涡旋中心连接的直线正交且穿过底板中心的直线上，因此，在使动涡盘底板中心与环绕件涡旋中心发生偏心的涡旋型流体设备中，在动涡盘回旋一圈的过程中，当从底板中心到压缩反作用力中心的距离最大时，从动涡盘底板中心到自转阻止部的距离为最长。因而，能够降低因动涡盘所产生的自转力矩而作用在自转阻止部的销上的载荷，能够实现涡旋型流体设备的小型化，并且能够提高自转阻止机构的耐久性。

附图说明

图1是表示本发明的第一实施方式的涡旋型压缩机的主视图。

图2是涡盘单元的说明图。

图3是构成自转阻止机构的自转阻止部的放大剖视图。

图4是动涡盘底板上的自转阻止机构的自转阻止部的配置图。

图5是动涡盘回旋时的压缩反作用力中心与动涡盘底板中心间的距离变动的说明图。