[发明专利]涡旋型流体设备

权利要求书

1.一种涡旋型流体设备，包括：

涡盘单元，所述涡盘单元使定涡盘及动涡盘以各自的环绕件相对的方式啮合来形成密闭空间，其中，所述定涡盘及所述动涡盘在底板上竖立设置有涡旋状的环绕件，且所述底板的中心与所述环绕件的涡旋中心彼此偏心；以及

自转阻止机构，所述自转阻止机构沿所述动涡盘的周向至少配置有三个以上的自转阻止部来阻止所述动涡盘的自转，所述自转阻止部由圆形孔和销构成，其中，所述圆形孔形成在所述动涡盘的底板的背面和与所述背面相对的外壳壁中的任一方上，所述销与所述圆形孔卡合并突出设置在所述动涡盘的底板的背面和与所述背面相对的外壳壁中的另一方上，

所述涡旋型流体设备利用所述自转阻止机构阻止所述动涡盘的自转，并且使所述动涡盘绕所述定涡盘的轴心进行公转回旋运动，从而使所述密闭空间的容积变化，

其特征在于，

所述自转阻止机构形成为：将所述自转阻止部中的至少一个配置成使所述圆形孔的中心位于与将所述动涡盘的底板中心和所述环绕件的涡旋中心连接的直线正交且穿过所述底板中心的直线上。

2.如权利要求1所述的涡旋型流体设备，其特征在于，

在所述自转阻止机构中，使将所述动涡盘的底板中心与所述环绕件的涡旋中心连接的直线，以所述底板中心为中心沿与所述动涡盘的环绕件的卷绕方向相反的方向旋转90°，将旋转后的所述直线与以所述底板中心为中心且以从所述底板中心到所述圆形孔的中心的长度为半径的节圆相交的点设定为一个所述自转阻止部的中心位置，并以这一个自转阻止部为基准在所述节圆上以等间隔配置其它的自转阻止部。

3.如权利要求1或2所述的涡旋型流体设备，其特征在于，

将所述圆形孔形成在所述动涡盘的底板的背面，将所述销突出设置在所述外壳壁侧。

4.如权利要求1所述的涡旋型流体设备，其特征在于，

将所述动涡盘的底板中心与所述环绕件的涡旋中心的偏心量设为以所述定涡盘的轴心为中心进行回旋的所述动涡盘的回旋半径的1/3以下。