[发明专利]具有封装的光阻隔件的支撑环

权利要求书

1.一种热处理设备，包括：

热源；以及

可旋转基板支座，与所述热源相对，所述可旋转基板支座包括支撑构件，所述支撑构件具反射性光阻挡构件，所述反射性光阻挡构件移动式设置在所述可旋转基板支座内侧。

2.如权利要求1所述的热处理设备，其中所述光阻挡构件包括封装的部件。

3.如权利要求2所述的热处理设备，其中所述封装部件包括耐火金属。

4.如权利要求1所述的热处理设备，其中所述光阻挡构件是颗粒膜。

5.如权利要求4所述的热处理设备，其中所述颗粒膜包括石墨。

6.如权利要求4所述的热处理设备，其中所述颗粒膜包括金属颗粒。

7.如权利要求6所述的热处理设备，其中所述金属颗粒为钨。

8.一种用于热处理腔室中的旋转基板支座的支撑构件，所述支撑构件包括：

磁性转子；

壁，连接所述磁性转子，所述壁与所述磁性转子共同限定所述壁内的内部空间；以及

反射性光阻挡构件，移动式设置在所述内部空间内侧，其中间隙维持在所述反射性光阻挡构件与所述壁之间。

9.如权利要求8所述的支撑构件，其中所述光阻挡构件是金属片。

10.如权利要求9所述的支撑构件，其中所述金属片是耐火金属，且所述金属片包括伸缩接头。

11.如权利要求10所述的支撑构件，其中所述壁包括多个定位件。

12.如权利要求11所述的支撑构件，其中所述壁为半透明材料，且所述金属片为由铝、金、银、铂、钨、钽、钛、与前述材料的组合所构成的群组选出的材料。

13.一种用于热处理腔室的支撑构件，包括：

壁，限定内部空间；以及

反射性金属片，移动式设置在所述内部空间中，其中间隙维持在所述反射性金属片与所述壁之间。