[发明专利]熔融玻璃制造方法和使用该制造方法的平板玻璃的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及熔融玻璃制造方法及使用该制造方法的平板玻璃的制造方法。更具体而言，本发明涉及用于生产均质性高的高品质无碱玻璃的熔融玻璃制造方法及使用该制造方法的平板玻璃的制造方法。

背景技术

平板显示器(FPD)用玻璃基板的制造中，为了提高玻璃基板的绝缘性，优选使用实质上不含碱金属离子的无碱玻璃。另外，从热膨胀系数小的方面考虑，无碱玻璃在FPD用玻璃基板的制造中也是优选的。

FPD用玻璃基板的制造中，要求制造进一步高品质化即均质性高的高品质玻璃基板。因此，在通过将玻璃原料熔化而得到熔融玻璃的熔化槽(熔融炉)中为了提高熔融玻璃的均质性想了各种办法。

在专利文献1记载的熔融炉中，利用横槛将熔融炉分成上游区域和下游区域，在各个区域中形成熔融玻璃的循环流(上游侧循环流、下游侧循环流)，由此进行原料的熔化和熔融玻璃的均质化。更具体而言，在上游区域中形成上游侧循环流，由此进行玻璃原料的熔化，在下游区域中形成下游侧循环流，由此进行熔融玻璃的均质化。在专利文献1记载的熔融炉中，为了控制上游侧循环流和下游侧循环流，在横槛的上游侧设置有鼓泡器。

专利文献2记载的熔融炉(熔化槽)不具有与专利文献1记载的熔融炉中的横槛对应的结构，但记载了如下内容：使用至少一列鼓泡器和至少两个彼此相向的燃烧器对玻璃进行熔融、澄清。

但是，专利文献1、2记载的熔融炉不一定适合生产高品质无碱玻璃。

使用T_η、即玻璃粘度η达到10²[dPa·s]时的温度作为玻璃的熔化温度的指标，无碱玻璃的T_η为1500℃～1760℃，与通常的钠钙玻璃等含碱玻璃相比，T_η高出100℃以上，难以均质化。因此，在专利文献1、2记载的钠钙玻璃等的通常的用于大量生产等的布局的熔融炉中不能充分均质化，不一定适合制造对均质性的要求特别严格的玻璃制品(FPD用玻璃基板等)。

另外，如上所述，无碱玻璃的T_η高于钠钙玻璃等含碱玻璃的T_η，因此，熔融炉内的熔融玻璃的温度也必然升高。熔融玻璃的温度高时，熔融玻璃对炉内结构物的侵蚀作用也相应地增强。因此，在无碱玻璃的情况下，在熔融炉的底部存在专利文献1记载的熔融炉中的横槛或专利文献2记载的熔融炉中的澄清台等对熔融玻璃流带来影响的高差时，由熔融玻璃造成的高差的侵蚀和由此产生的杂质成为问题。

另外，在无碱玻璃的情况下，熔融炉内的熔融玻璃的温度必然升高，因此，采用专利文献1那样下游区域长的结构或专利文献2那样大型的熔融炉时，使用燃烧器进行加热的范围增宽，因此在能效方面是不利的。另外，熔融玻璃所导致的侵蚀及由此产生的杂质、熔融玻璃的流速变化也成为问题。

为了解决上述问题，本申请人提出了专利文献3记载的熔融玻璃制造装置。在专利文献3记载的熔融玻璃制造装置中，将设置在用于熔化玻璃原料的熔化槽10的底面附近的鼓泡器(第一、第二鼓泡器13、14)和对熔化槽10的上部空间进行加热的燃烧器15设定为特定的配置，由此在没有在熔融玻璃流路的底部设置如专利文献1、2记载的对熔融玻璃流带来影响的高差结构的情况下促进熔化槽10内的熔融玻璃的循环流(上游侧循环流100、下游侧循环流101)的形成，并且控制使得上游侧循环流100的流速与下游侧循环流101的流速成为规定的关系，由此能够生产均质性高的高品质无碱玻璃(文中的标号均如专利文献3中所记载)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-124323号公报

专利文献2：日本特开平7-144923号公报

专利文献3：国际公开2011/036939号

发明内容

发明所要解决的问题

如上所述，通过使用专利文献3所述的玻璃制造装置，能够生产均质性高的高品质无碱玻璃。

然而，对于FPD用的玻璃基板的规格的要求逐年变得严格，因此为了应对该要求，期望所制造的玻璃的进一步均质化。

本发明的目的在于，为了解决上述的现有技术的问题，提供适合于生产均质性高的高品质无碱玻璃的熔融玻璃制造方法、以及使用该制造方法的平板玻璃制造方法。

用于解决问题的手段

为了实现上述的目的，本发明是一种熔融玻璃制造方法，其为使用具有用于熔化玻璃原料的熔化槽的熔融玻璃制造装置制造熔融玻璃的熔融玻璃制造方法，其特征在于，

上述熔化槽具有用于对该熔化槽的上部空间进行加热的燃烧器，